【Webセミナー対応】半導体デバイスにおける洗浄技術の基礎と歩留改善のための効果的な汚染制御技術

セミナー趣旨

　半導体製造において、各種汚染は歩留低下を引き起こします。序論として汚染が半導体デバイスにおよぼす影響を示し、それを踏まえて、半導体洗浄に関して説明します。従来の洗浄から最近の洗浄、目的別洗浄について詳細を説明します。洗浄以外の汚染制御技術に関しても紹介します。最後に次世代の汚染制御の問題点と洗浄乾燥技術について解説します。

受講対象・レベル

研究開発および製造業務にたずさわっている中堅、若手や新人の方対象です
※特に予備知識は必要ありません。基礎から解説いたします

習得できる知識

半導体製造における汚染制御と歩留改善に洗浄技術が重要であることが理解できる
最新の洗浄液技術を習得できます

セミナープログラム

１．序論－汚染が半導体デバイスに与える影響
　1-0 クリーン化の重要性
　1-1　金属汚染(Fe, Cu等)およびナノパーティクル
　1-2　分子汚染(NH3, アミン, 有機物, 酸性成分)
　1-3　各種汚染の分析解析方法及びモニタリング技術
 ２．洗浄技術
　2-1　RCA洗浄
　2-2　各種洗浄液と洗浄メカニズム-薬液系洗浄　vs. 純水系洗浄
　2-3　洗浄プロセスの動向
　2-4　最先端の洗浄技術とその問題点
 ３．その他の汚染制御技術
　3-1　工場設計
　3-2　ウェーハ保管、移送方法
 ４．次世代の汚染制御の問題点と今後の課題
　4-1　新洗浄乾燥技術(SCCO2洗浄乾燥, PK剤乾燥)
　4-2　次世代の洗浄、汚染制御の問題点と今後の課題　

　　□質疑応答・名刺交換□

セミナー講師

オフィスシラミズ　室長　白水 好美　氏

【専門】
半導体洗浄、クリーン化、微量分析技術、歩留改善
【略歴】
1983年  4月-1991年　　    富士通
1991年10月-2013年  9月   日本電気-NECエレクトロニクスｰルネサスエレクトロニクス
2013年11月-2015年12月　Samsung electronics　常務待遇

セミナー受講料

44,000円( S&T会員受講料41,800円 )
(まだS&T会員未登録の方は、申込みフォームの通信欄に「会員登録情報希望」と記入してください。
詳しい情報を送付します。ご登録いただくと、今回から会員受講料が適用可能です。)
S&T会員なら、2名同時申込みで1名分無料
2名で 44,000円 (2名ともS&T会員登録必須／１名あたり定価半額22,000円)

【1名分無料適用条件】
※2名様ともS&T会員登録が必須です。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※3名様以上のお申込みの場合、１名あたり定価半額で追加受講できます。
※受講券、請求書は、代表者に郵送いたします。
※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です。
　(申込みフォームの通信欄に「請求書１名ごと発行」と記入ください。)
※他の割引は併用できません。

※テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【Live配信/WEBセミナー受講限定】
１名申込みの場合：35,200円 ( S&T会員受講料 33,440円 )　
※１名様でLive配信/WEBセミナーを受講する場合、上記特別価格になります。
※備考欄に【テレワーク応援キャンペーン】とご記入のうえお申込みください。
※他の割引は併用できません。

受講について

※申込の際、備考欄に「会場受講」「WEBセミナー」のいずれかをご記入ください。
※【WEBセミナー】の申込み受付の締切日も、会場受講のセミナー開催日までです。ご注意ください。​

【WEBセミナー】をご選択の場合、以下の流れ・受講内容となります。
※会場で受講の場合、このサービスは付与されませんのでご注意ください。
・当日のセミナーを、後日にお手元のPCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
・後日（開催終了後から10日以内を目途）に、メールにてご連絡申し上げます。
・S&T会員マイページ（無料）にログインいただき、ご視聴ください。
・視聴期間は10日間です。ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。
・セミナー資料は印刷・郵送いたします。
・このセミナーに関する質問に限り、後日に講師にメールで質問可能です。（テキストに講師の連絡先を掲載）

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