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生産工学概論第12回:知的財産マネジメント
新製品ビジネスを成功に導くための他社特許調査と対策の基礎
開催日 |
10:30 ~ 16:30 締めきりました |
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主催者 | 株式会社 情報機構 |
キーワード | 知的財産マネジメント |
開催エリア | 東京都 |
開催場所 | 【新宿区】新宿文化センター |
交通 | 【地下鉄】東新宿駅 |
研究開発部門が知っておくべき特許調査・対策とは?
フェーズごとの特許調査範囲/他社特許対策のポイントと、
特許出願戦略への反映までを詳解!
セミナー講師
栗原光技術士事務所 代表 栗原 光一郎 先生
■ご略歴:
1984年北海道大学大学院理学研究科化学第二専攻修士課程修了後、日立金属株式会社入社。主にセラミック電子部品の開発〜量産を担当
2007年特許「ガラスセラミックス複合基板」で発明協会中国経済産業局長賞を受賞。同年より知的財産担当。特許出願明細書作成〜国内外での権利化推進、及び他社特許調査・対策を担当
2018年末栗原光技術士事務所を開業。技術士(化学部門・総合技術監理部門)、二級知的財産管理技能士(管理業務)
■ご専門および得意な分野・研究:
<製造業技術・知財コンサルタント>
○セラミック電子部品等での、
1)製品のQCD改善指導・支援
2)製造プロセス設計〜量産化支援 (適切な新製品プロセス開発による、早期製品立上)
○自社技術・製品の保護方策支援、発明創出〜権利化・知財力育成支援、他社特許調査・対策支援
セミナー受講料
1名47,300円(税込(消費税10%)、資料・昼食付)
*1社2名以上同時申込の場合、1名につき36,300円
*学校法人割引;学生、教員のご参加は受講料50%割引。
セミナー趣旨
新製品開発が具体的になってくると、他社特許対策の重要性に気づくことが多いのではないでしょうか。開発に関わる技術者が理解すべき特許及びその調査・対策について学びましょう。
受講対象・レベル
・研究開発部門に所属している一般技術者〜リーダークラスの方。
・新製品開発に関わる技術者・開発者。
・特許調査・対策について、理解を深めたい技術者。
習得できる知識
・特許の基礎知識
・特許調査及び対策の基礎知識
・自社特許出願の重要性
セミナープログラム
1.特許とは
1)特許の種類
2)権利期間
3)権利化(登録)までの手続き
4)侵害/非侵害の判断の仕方(オールエレメントルール)
2.他社特許調査/製品・技術のフェーズで異なる調査の目的と調査範囲
1)開発初期:技術動向調査
2)開発段階:<自社の>出願前調査
3)開発段階:<自社技術・製品が、他社の>権利侵害(侵害予防)調査
4)製品化後:<他社登録特許の>無効資料調査
3.他社特許対策
1)継続的に発行公報のチェック
2)公開段階での対策
a)対比表の作成・該非判断
b)回避可否の判断
c)特許庁への情報提供による無障害化
3)登録後の対策
a)無効資料調査(非特許文献、外国文献など)
b)実施許諾申し入れのための調査
4)日常の対策:公証役場での確定日付取得
a)新製品生産の計画、工場の設計図面等の文書<先使用権主張>
b)開発製品そのもの、製造のための文書、検査データ、など
4.自社出願特許への反映
1)競合・先行他社特許を知って、自社技術を議論
2)自社出願〜登録特許があっての他社対策
3)先願主義:(他社より)1日でも早い出願
4)効果的な優先権出願
<質疑応答・個別質問・講師との名刺交換>