★ 発明提案書作成、新規性・進歩性の事前検証、意見書案・補正書案の作成など…
     実際にデモンストレーションを交えながら、生成AIの使いどころを解説します!

 

【Live配信】2026年3月17日(火) 13:00~16:30 

【アーカイブ(録画)配信】 2026年3月27日まで受付(視聴期間:3月27日~4月6日まで) 

 

 
 

 

 

【項目】※クリックするとその項目に飛ぶことができます

    セミナー趣旨

    研究開発現場では、アイデア創出や発明発掘のスピードが企業競争力を左右しています。本講座では、生成AI(ChatGPT、Claude、Geminiなど)を活用して、発明提案・技術要素整理・明細書作成・知財戦略立案を結びつける具体的手法を、デモンストレーションを交えて紹介します。
     さらに、PatentSight+?、SPEEDA?、PatSnap?、PatentField?などのデータを統合し、R&Dテーマ設計から特許ポートフォリオ最適化まで支援す“AI×知財戦略”の新しいアプローチを解説します。

    習得できる知識

    ・研究開発と知財を統合する生成AIの活用事例
    ・発明者対話の自動構造化(AIマインドマップ)
    ・特許群要約・トレンド分析・競合動向分析
    ・R&Dテーマ設計から権利化までの効率的ワークフロー

    セミナープログラム

    1.生成AIの最新動向とR&D×知財連携の必要性

     1.1 ChatGPT、Claude、Geminiの最新アーキテクチャ比較
     1.2 技術文書(特許/論文)におけるLLMの強み・弱み
     1.3 R&D・知財におけるAI導入の成功/失敗パターン

     

    2.発明創出プロセスの再設計とAI活用の全体像

     2.1 発明創出フローの可視化:従来方式とAI活用方式の比較
     2.2 アイデア創出時にAIを使うべき場面/使うべきでない場面
     2.3 R&Dテーマ設定と知財企画の橋渡しに必要な要件

     

    3.AIによる発明提案書の生成と技術要素の構造化

     3.1 発明者ヒアリング内容のテキスト化・要素抽出
     3.2 AIマインドマップによる技術要素の自動階層化
     3.3 課題・解決手段・作用効果の自動整理
     3.4 類似技術の自動サジェスト(特許/論文横断分析)

     

    4.先行技術調査(Prior Art Search)の高度化

     4.1 検索キーワードのAI自動生成(シソーラス拡張)
     4.2 IPC・CPC分類を用いた自動検索戦略設計
     4.3 特許群要約・要旨比較の自動化
     4.4 生成AIによる非特許文献(論文・ペーパー)の統合分析

     

    5.発明の新規性・進歩性の事前検証(AIによるPre-FTO的分析)

     5.1 引用文献との構成比較表のAI自動生成
     5.2 クレーム構成要素の精緻な分解とマッピング
     5.3 競合技術との差異抽出・差別化ポイントの可視化

     

    6.AIを用いたクレームドラフティング技術

     6.1 広い概念・狭い概念のAI生成とバリエーション管理
     6.2 実施例/効果の一貫性確保のための文脈保持(RAG活用)
     6.3 マルチクレームセットの自動生成(請求項1→従属項群)

     

    7.意見書案・補正書案作成の半自動化

     7.1 審査官拒絶理由の自動要点抽出
     7.2 反論ロジック(相違点・阻害要因・作用効果)の自動生成
     7.3 補正書案の自動生成と法的妥当性チェック

     

    8.AIによるR&Dテーマ創出と技術ロードマップ作成

     8.1 特許ビッグデータによる技術トレンド抽出
     8.2 新規テーマ候補の生成とスコアリング
     8.3 5年・10年視点の技術ロードマップAI生成

     

    9.知財ポートフォリオ戦略の高度化

     9.1 PatentSight+?を用いた特許価値スコアのAI活用
     9.2 コア技術・周辺技術の自動クラスタリング
     9.3 ライセンス可能領域の抽出と収益機会分析

     

    10.AIによる競合企業の知財・技術動向把握

     10.1 出願傾向の自動可視化(IPC・出願人・年度別)
     10.2 技術アーキテクチャ比較(例:EUV等の特許クラスター分析)
     10.3 M&A候補企業の技術強みの自動抽出(SPEEDA?活用)

     

    11.AI活用時のリスクとガバナンス

     11.1 機密情報流出リスクとその対策(オンプレ/API方式)
     11.2 生成AI特有のハルシネーションと品質管理プロセス
     11.3 著作権・二次利用・クリーンルーム対応

     

    12.社内展開・導入プロセスの実務ノウハウ

     12.1 R&D/知財の横断プロセス設計
     12.2 社内教育のカリキュラム構築
     12.3 部門別AI利用ガイドラインの作成

     

    【質疑応答】

    セミナー講師

    弁理士法人スズエ国際特許事務所 代表社員 所長弁理士 赤堀 孝 氏

    【略歴】
    1985年4月 京セラ株式会社 入社
     新規事業の開発部門に所属し、アモルファスシリコン使用デバイスの研究開発を担当。
    1986年2月 住友金属工業株式会社(現日本製鉄)入社
     総合技術研究所に入所し、半導体製造装置技術のプラズマCVD装置の開発を担当。
    1996年5月 東京エレクトロン株式会社 入社
     半導体製造プロセスおよび半導体製造装置の開発に従事。
    2004年3月 鈴榮特許綜合法律事務所入所を経て、現弁理士法人スズエ国際特許事務所(特許業務法人スズエ国際特許事務所から改称)に在籍。2009年4月に弁理士登録し、2017年10月より代表社員 所長弁理士に就任。
    2025年4月 生成AIによる知財業務をサポートする事業を目的に、aiip株式会社を設立し、代表取締役社長に就任。



    セミナー受講料

    1名につき 49,500円(消費税込、資料付)
    〔1社2名以上同時申込の場合のみ1名につき44,000円〕

    主催者

    開催場所

    全国

    受講について

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    開催日時


    13:00

    受講料

    49,500円(税込)/人

    ※本文中に提示された主催者の割引は申込後に適用されます

    ※銀行振込

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