【中止】PFAS規制の動向と半導体業界への影響、対応状況、今後の方向性

セミナー趣旨

　PFASについてはニュースでもしばしば取り上げられるようになり、一般の関心も高くなっている。POPs条約で規定されている一部の有害なPFASについては日本国内では化審法により規制されている。一方、EUではREACH規則による全面的な使用制限が検討されており、今後の動向に注目が集まっている。
　本講ではPFAS規制の海外国内の動向、特にEUの包括規制案の動向について解説する。また、PFASは様々な用途に用いられ、半導体製造工程でもその応用は多岐にわたっている。PFASが用いられていると考えられる工程の内容とその代替可能性、排水処理方法の現状等について解説する。

習得できる知識

・PFASとは何か
・国内外のPFAS規制条約法令の動向
・PFASが用いられる半導体工程の詳細
・半導体PFAS代替の動向
・半導体工場の排水処理システム

セミナープログラム

１．PFASとは？
　・PFASの定義
　・国内・海外のPFAS関連ニュース
　・製品ライフサイクルとPFASの人体・環境への影響

２．PFAS規制の動向
　・ストックホルム条約
　・国内の規制〜化審法、水道法
　・欧州の規制〜REACHの包括規制案の状況
　・米国の規制

３．PFASの分析技術・処理技術
　・分析方法〜LC-MS／MS、GC-MS／MS
　・総量分析
　・焼却処理
　・その他の処理方法

４．半導体産業への影響
　・半導体とは？
　・半導体製造プロセス
　・3Mショック
　・PFAS使用工程
　　・ドライエッチング〜チラーの冷媒、エッチングガス
　　・リソグラフィー〜フォトレジスト・反射防止膜・現像液・現像リンス液の添加剤、光酸発生剤（PAG）、ペリクル
　　・ウエットエッチング〜エッチング液の添加剤
　　・超純水配管
　　・後工程部材〜モールド材、DAF、パッケージ基板材料
　・半導体工場の排水・廃液処理システム
　・排水管理基準
　・半導体材料・部材メーカーの対応状況
　・半導体企業の対応状況

【質疑応答】

セミナー講師

(株)ISTL　代表取締役社長　博士(工学)　礒部 晶 氏

1984−2002　日本電気(株)にて半導体プロセス開発
2002−2006　(株)東京精密にてCMP事業執行役員
2006−2013　ニッタハース(株)にてテクニカルサポートセンター長等
2013−2015　(株)ディスコにて新規事業担当
2015−　(株)ISTL設立し現在に至る　技術・事業アドバイザー、各種セミナー講師等

精密工学会プラナリゼーションCMPとその応用技術専門委員会幹事（2006−）

セミナー受講料

1名につき49，500円（消費税込・資料付き）
〔1社2名以上同時申込の場合1名につき44，000円（税込）〕

受講について

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