半導体洗浄技術の基礎知識および技術トレンド

セミナー趣旨

　半導体製造において、洗浄は品質や歩留まりを向上するために欠かすことができない工程です。その洗浄技術の基礎から次世代半導体の洗浄課題、最新洗浄技術までを本セミナーで解説します。まずは、半導体洗浄の装置や薬液種類に関する基礎的な内容を詳しく説明します。これにより、洗浄対象物や洗浄原理が理解できます。また洗浄後は、濡れたウェハ表面をデバイスに悪影響なく乾燥させる必要があります。乾燥は洗浄とセットとなる重要なプロセスであるため、乾燥工程にもフォーカスを当て解説します。その後、次世代半導体の構造や材料の変化に伴う洗浄と乾燥課題に触れていきます。最先端半導体の洗浄が従来の半導体洗浄に比べ難易度が高い理由を解説し、最先端の洗浄技術を紹介します。
　本セミナーでは、「洗浄」と「乾燥」の2つのテーマに対する過去から最新にわたる技術トレンドを紹介します。

受講対象・レベル

・半導体洗浄関連の業務にたずさわって1~3年の若手技術者や新人～中堅の方
・半導体の洗浄技術に興味のある方

必要な予備知識

特に予備知識は必要ありません。基礎から解説いたします。

習得できる知識

・半導体製造における洗浄の役割を基礎から理解できる
・半導体洗浄に使用される装置や薬液種類や洗浄原理が理解できる
・先端半導体に要求される洗浄技術の課題や最新の洗浄技術が理解できる

セミナープログラム

1.半導体ウェット洗浄の必要性
 1-1 半導体製造フローと洗浄の位置付け
 1-2 洗浄装置の役割
 1-3 洗浄の除去対象

2.半導体ウェット洗浄の方法・原理
 2-1 洗浄装置の種類
 2-2 異物の除去
 2-3 異物の付着抑制

3.洗浄の技術トレンド
 3-1 洗浄と半導体の歴史
 3-2 従来の洗浄技術

4.乾燥の技術トレンド
 4-1 乾燥と半導体の歴史
 4-2 従来の乾燥技術

5.次世代半導体の洗浄課題
 5-1 半導体デバイスのトレンド
 5-2 洗浄の技術的課題
 5-3 洗浄装置に求められる機能

6.先端技術・感動技術
 6-1 最新の洗浄技術
 6-2 最新の乾燥技術
 6-3 シミュレーション技術

7.まとめ

キーワード：
半導体,半導体洗浄,乾燥,最新技術,洗浄課題,次世代半導体,セミナー,講演,研修

セミナー講師

（株）SCREEN セミコンダクターソリューションズ
R&D戦略統轄部　アライアンス推進部　先端プロセス開発課
塚原　隆太氏

セミナー受講料

49,500円（税込、資料付）
■ 会員（案内）登録していただいた場合、通常1名様申込で49,500円（税込）から
・1名で申込の場合、46,200円（税込）へ割引になります。
・2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、計49,500円（2人目無料）です。


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