EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術

49,500 円(税込)

※本文中に提示された主催者の割引は申込後に適用されます

※銀行振込 または、当日現金でのお支払い

会員ログインして申込む

よくある質問はこちら

このセミナーについて質問する
開催日 13:00 ~ 16:00 
主催者 サイエンス&テクノロジー株式会社
キーワード 半導体技術   高分子・樹脂材料
開催エリア 全国
開催場所 オンライン配信セミナー

EUVリソグラフィーの基礎とプロセス最適化方法・評価方法

■EUVの基本事項とレジスト材料開発、評価・プロセス技術について解説!■次世代EUVレジストであるメタルレジストの特徴と評価方法についても言及します

  受講可能な形式:【Live配信】のみ 

セミナー講師

大阪公立大学 大学院 工学研究科 客員教授 関口 淳 氏[プロフィール]1983年3月、芝浦工業大学応用化学科卒業。1983年4月、日本ケミテック入社。分析研究所に勤務。1985年4月、住友GCA社に入社。レジスト塗布現像装置のプロセス開発に従事。その後、レジスト解析装置および形状シミュレータのシステム開発に従事。現在、リソテックジャパン㈱専務取締役。2019年4月~立命館大学客員教授、2020年4月~大阪府立大学客員教授、大阪市立大学客員教授、2022年4月~大阪公立大学客員教授。2000年、東京電機大学にて工学博士。応用物理学会会員。高分子学会会員。2016年、精密工学会技術賞。専門は、フォトリソグラフィー、バイオミメティクス。論文多数。著書は、「感光性フォトレジスト材料の評価」「リソグラフィー技術・その40年」「ノボラックレジスト・材料とプロセスの最適化」(いずれもS&T出版)。講演多数。

セミナー受講料

※お申込みと同時にS&T会員登録をさせていただきます(E-mail案内登録とは異なります)。

49,500円( E-mail案内登録価格46,970円 )E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料2名で 49,500円 (2名ともE-mail案内登録必須/1名あたり定価半額24,750円)

【1名分無料適用条件】※2名様ともE-mail案内登録が必須です。※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。※3名様以上のお申込みの場合、1名あたり定価半額で追加受講できます。※請求書(PDFデータ)は、代表者にE-mailで送信いたします。※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です。 (申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」と記入ください。)※他の割引は併用できません。

 テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【オンライン配信セミナー受講限定】 1名申込みの場合:受講料( 定価:37,400円/E-mail案内登録価格 35,640円 )※1名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。※他の割引は併用できません。

受講、配布資料などについて

Zoom配信の受講方法・接続確認

  • 本セミナーはビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信となります。PCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
  • 申込み受理の連絡メールに、視聴用URLに関する連絡事項を記載しております。
  • 事前に「Zoom」のインストール(または、ブラウザから参加)可能か、接続可能か等をご確認ください。
  • セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
  • セミナー中、講師へのご質問が可能です。
  • 以下のテストミーティングより接続とマイク/スピーカーの出力・入力を事前にご確認いただいたうえで、お申込みください。≫ テストミーティングはこちら 

配布資料・Live配信受講:製本テキスト(開催日の4、5日前に発送予定)  ※開催まで4営業日~前日にお申込みの場合、セミナー資料の到着が、   開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。その他注意事項※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。

セミナー趣旨

情報システム社会の発展は目覚ましく、パーソナルコンピュータは今や一人一台を所有する。最近では、スマートフォンが手のひらコンピューティングを可能にするなど、私たちの生活を劇的に変えている。また 、取り扱うデータ量も増大しており、ビッグデータと呼ばれる単一のデータ集合内で数十テラバイトから数ペタバイトの範囲のデータをやり取りする時代が到来している。そこに、IoT(Internet of Things) やIoE(Internet of Everything) と呼ばれる、すべての「モノ」がインターネットにつながることで、自動認識や自動制御、遠隔計測などを行うことが発展してきている。これらの発展はメモリやCPU(中央演算処理装置 ) 等の半導体電子デバイスの技術革新によって支えられており、この電子デバイスの技術 革新は 半導体微細加工技術の進展によるものである。現在は、EUVリソグラフィー技術により、20nmレベルの微細加工が可能となっており、本講座では、このEUVリソグラフィー技術の概要とプロセス評価技術について解説する。

受講対象・レベル

リソグラフィー・レジスト研究者、中堅社員、若手社員で、EUV露光技術に興味のある方

習得できる知識

・EUVリソグラフィーの基礎知識・EUVフォトプロセスの最適化方法の習得・EUVフォトプロセスの評価方法の習得

セミナープログラム

1.EUVLの概要 1.1 EUVLの概要 1.2 EUVL用レジスト2.アウトガス評価技術 2.1 EUVLレジストのアウトガス評価方法 2.2 EUVLレジストのアウトガス評価装置3.EUVレジストの評価技術 3.1 EUV透過率測定 3.2 ナノパーティクル添加レジストの高感度化 3.3 屈折率nk測定 3.4 EUV2光束干渉露光4.EUVメタルレジストの評価技術 4.1 メタルレジストの概要 4.2 EUVメタルレジストのアウトガス分析 4.3 EUVメタルレジストの問題点5.EUVフォトレジストと電子線レジストの感度□ 質疑応答 □