X線光電子分光法の原理から測定・解析の手順やコツ、ノウハウまで
間違った理解や手順で測定、解析を行っていませんか？"正しい"X線光電子分光法(XPS:X-ray Photoelectron Spectroscopy / ESCA:Electron Spectroscopy for Chemical Analysis)の使い方を解説！
受講可能な形式：【Live配信】のみ
セミナー講師
ジャパン・リサーチ・ラボ 代表 博士（工学） 奥村 治樹 氏略歴大手化学メーカー、電器メーカーでの研究開発及びにマネジメント業務に携わる。現在は、ベンチャーから上場企業まで様々な業種の顧問や技術コンサルタントとして、研究開発、製造における課題解決、戦略策定から人事研修などの人材育成などを行っている（詳細はHP参照）。また、学会等での招待講演や国プロにおけるキャリア形成プログラムの講師なども行っている。その他 所属・役職・大阪産業大学 情報システム学科 非常勤講師・大阪市産業創造館 技術・経営相談員・滋賀県産業支援プラザ 相談員・知財管理技能士
セミナー受講料
※お申込みと同時にS&T会員登録をさせていただきます(E-mail案内登録とは異なります)。
55,000円( E-mail案内登録価格52,250円 )E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料2名で 55,000円 (2名ともE-mail案内登録必須／１名あたり定価半額27,500円)
【1名分無料適用条件】※2名様ともE-mail案内登録が必須です。※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。※3名様以上のお申込みの場合、１名あたり定価半額で追加受講できます。※請求書（PDFデータ）は、代表者にE-mailで送信いたします。※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です。 (申込みフォームの通信欄に「請求書１名ごと発行」と記入ください。)※他の割引は併用できません。
テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【オンライン配信セミナー受講限定】 1名申込みの場合：受講料( 定価：41,800円／E-mail案内登録価格 39,820円 )※１名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。※他の割引は併用できません。
受講、配布資料などについて
Zoom配信の受講方法・接続確認
- 本セミナーはビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信となります。PCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
- 申込み受理の連絡メールに、視聴用URLに関する連絡事項を記載しております。
- 事前に「Zoom」のインストール(または、ブラウザから参加)可能か、接続可能か等をご確認ください。
- セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
- セミナー中、講師へのご質問が可能です。
- 以下のテストミーティングより接続とマイク/スピーカーの出力・入力を事前にご確認いただいたうえで、お申込みください。≫ テストミーティングはこちら
アーカイブ配信の受講方法・視聴環境確認
- 当日のセミナーを、後日にお手元のPCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
- 会場での録画終了後から営業日で10日以内を目安に視聴開始のご案内をお知らせします。
- S&T会員マイページ（無料）にログインいただき、ご視聴ください。
- セミナーに関する質問に限り、後日に講師にメールで質問可能です。（テキストに講師の連絡先が掲載されている場合のみ）
- 動画視聴・インターネット環境をご確認ください。
- 以下の視聴環境および視聴テストを事前にご確認いただいたうえで、お申込みください。
- セキュリティの設定や、動作環境によってはご視聴いただけない場合がございます。≫ 視聴環境 ≫ 視聴テスト【ストリーミング（HLS）を確認】
配布資料・製本テキスト(開催前日着までを目安に発送) ※セミナー資料は開催日の４～５日前にお申し込み時のご住所へ発送致します。 ※間近でのお申込みの場合、セミナー資料の到着が開催日に間に合わないことがございます。その他注意事項※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。主催者より【受講に際しての注意事項】 大変申し訳ございませんが、講師とご同業（経営・人事研修・技術コンサルタント、またはこれに類する事業を手掛けている等）の方のご参加はお断り申し上げます。
特典【セミナー受講特典コンサルティング】 ※ コンサルティング料は受講料とは別になります。セミナーに受講して名刺交換をさせて頂いた方への特典サービスとして、初回限定で限定特別料金にてコンサルティングをご利用いただけます。技術的な相談はもちろん、戦略相談、オンサイトセミナーなど、依頼条件を満たす限り原則として実施内容、方法に制限はありません。技術コンサルティングには興味があるが利用したことがないので、どのようなものか良くわからず正式依頼に踏み切れない、決裁を取るために一度ディスカッションしたいという方は、是非この機会に、JRLのコンサルティングを御体験ください。限定特典ではありますが、必ず満足のいただける内容でお応えします。 ＜依頼条件＞・初回１回のみ・セミナー実施日より３カ月以内に依頼が成立・費用：内容によらず定額の限定特別料金
セミナー趣旨
表面、界面はあらゆる技術や製品の基盤となるものであり、現在扱われる材料やプロセス、技術、商品で表面や界面が関与していないものは無いと言っても過言ではありません。そのため様々な分析手法が開発されており、その中の代表がX線光電子分光法（XPS、ESCA）です。装置の発達で測定は比較的容易になってきているとはいえ、それと共に間違った理解や手順で測定、解析を行い、正しい情報が得られていないケースが増えています。一方で市販の書籍やセミナー等でも原理の解説を中心としたものが多いと言えます。原理の理解は重要ですが、現実には多くのXPSユーザーはXPSの開発者ではなく、利用者（アプリケーションユーザー）と言えます。したがって、求められているのは、原理は必要最低限に、それよりも、現場実務でXPSを活用するためのサンプリング、測定、解析といったテクニックやノウハウです。そして、XPS活用において必要不可欠な表面や界面の理解です。本講では、表面、界面の基礎から、XPSの原理の基礎はもちろん、実務活用にフォーカスした測定、解析の考え方、手順、技術的テクニック、コツやノウハウを豊富な応用事例を交えて解説します。
受講対象・レベル
・研究開発部門、分析部門、製造部門、品質保証部門など技術部門全般・若手から中堅を中心とした担当者・XPSの教育を行うリーダー、マネージャー
習得できる知識
・表面分析の基礎・表面分析の考え方と活用法・XPSの手法基礎・測定のコツ、ポイント・解析のコツ、ポイント
セミナープログラム
１．表面とは 表面はバルクとは異なり極めて特異な領域である表面を解析するために必要不可欠な、表面の定義、表面を決定づける要素と現象などについて解説します。２．表面分析の分類 表面分析はXPSだけではなく数多くのものがあります。表面を知る上ではそれらの表面分析手法を目的や状況に応じて使い分けなければならず、そのために知っておくべき代表的な表面分析手法の特徴等について解説します。３．サンプルの取り扱い 表面分析、特に極表面分析であるXPSの活用において必須となる試料の取り扱い、さんプリンについて解説します。 3.1 表面分析の勘所 3.2 サンプリングの方法と注意点 3.3 分かりにくい裏表の明示 3.4 試料汚染（コンタミネーション）の例４．XPSの基本 XPSを活用するにおいて必要となる原理や特徴、装置の解説から、スペクトル、様々なスペクトルに現れるXPSに特異な現象などについて、その対応や活用について解説します。 4.1 XPSの原理と特徴 4.2 XPSの検出深さ 4.3 XPS装置の基本構造 4.4 ワイドスキャン（サーベイスキャン） 4.5 ナロースキャン（代表的な元素） 4.6 バックグラウンド 4.7 エネルギー損失ピーク 4.8 シェイクアップサテライト 4.9 電荷移動サテライト 4.10 金属ピークの非対称性 4.11 サテライトピークの利用５．測定条件 XPSの測定条件をどのように考えて、決定していけばよいかについて、測定条件の違いによる影響の実例などを交えて解説します。 5.1 積算回数 5.2 パスエネルギーの影響 5.3 ピークの重なり６．チャージアップ対策 XPSの宿命とも言えるチャージアップの原理、メカニズムと対処について、具体的な方法や条件、上手く補正ができない時の対処ノウハウなどについて解説します。 6.1 チャージアップとは 6.2 チャージアップの影響と対応 6.3 帯電中和のメカニズム 6.4 同軸照射型帯電中和 6.5 チャージアップ補正条件と中和銃の設定例 6.6 化学状態による違い 6.7 チャージアップ補正テクニック７．解析の基本 解析の基本である定性、定量についてスペクトル前処理等も含めて解説します。 7.1 バックグラウンド処理 7.2 PSにおける定量と感度係数 7.3 より正確な定量値を得るために 7.4 ピーク分離のテクニック８．化学状態解析 XPSの最大の特徴の一つでもある化学状態解析について、その解析原理から解析手順、注意を要する特異ケースなどについて実例を交えながら解説します。 8.1 元素同定と化学状態の同定 8.2 ケミカルシフト 8.3 ポリマーの分析例 8.4 金属の価数評価 8.5 ケミカルシフトの注意点９．構造解析 通常XPSでは行われない結晶構造解析を例として、一般的に用いられるコアピーク以外のオージェ領域などを併用した高度な解析について解説します。 9.1 Tiの結晶構造（アナターゼ＆ルチル）解析 9.2 XRDとの比較 9.3 XPSによる光活性解析 9.4 オージェピークの活用 9.5 オージェパラメーターの活用１０．深さ方向分析 通常の表面分析と共に多くの場面で用いられるXPSデプスプロファイリングについて、測定手順、条件設定から注意点と対策などについて解説します。 10.1 角度変化法 ・深さ方向の原理 ・解析の限界と注意点 10.2 イオンエッチング ・デプスプロファイルのワークフロー ・エッチングレートの決定 ・条件設定のポイント ・注意すべきこと 10.3 測定ダメージとその抑制 ・イオンエッチングダメージ ・クラスターイオン銃 ・エッチング条件 10.4 HAXPES１１．イメージング 導入が広がっているXPSイメージング測定について、測定例を示しながらその原理や測定、解析について解説します。１２．ハイブリッド分析 実際の分析評価においては残念ながらXPSだけでは十分ではないことも多く、そのような場合の評価の考え方、方法として複数手法の組み合わせについて解説します。１３．その他補足 13.1 正体不明のピークシフト 13.2 再汚染の影響 13.3 参考文献等 13.4 ちょっと便利なサイトやソフト１４．解析の実例 14.1 XPSによる紫外線照射ＰＩの解析 14.2 表面構造変化の解析（XPS） 14.3 気相化学修飾法１５．まとめと質疑
