半導体製造における各種汚染の影響と洗浄技術の基礎および技術トレンド

49,500 円(税込)

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開催日 13:00 ~ 17:00 
締めきりました
主催者 (株)R&D支援センター
キーワード 半導体技術   洗浄技術   クリーンルーム
開催エリア 全国
開催場所 【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。 

基礎から次世代の汚染制御の問題点と洗浄乾燥技術まで!従来の洗浄(薬液VS純水)から最近の洗浄、目的別洗浄など詳解! ※オンライン会議アプリZoomを使ったWEBセミナーです。ご自宅や職場のノートPCで受講できます。

セミナー講師

オフィスシラミズ 室長 博士(工学) 白水 好美 氏<専門> 半導体洗浄、クリーン化、微量分析技術<活動等> SEMI シリコンウェーハ委員会テストメソッドタスクフォース委員 SDRJ & IDRS 歩留向上委員会メンバー 2008年5月 公益社団法人空気清浄協会 感謝状  2013年12月 SEMI JRSC(日本地区スタンダード委員会) 功労賞 

セミナー受講料

49,500円(税込、資料付)■ セミナー主催者からの会員登録をしていただいた場合、1名で申込の場合44,000円、  2名同時申込の場合計49,500円(2人目無料:1名あたり24,750円)で受講できます。(セミナーのお申し込みと同時に会員登録をさせていただきますので、   今回の受講料から会員価格を適用いたします。)※ 会員登録とは  ご登録いただきますと、セミナーや書籍などの商品をご案内させていただきます。  すべて無料で年会費・更新料・登録費は一切かかりません。  メールまたは郵送でのご案内となります。  郵送での案内をご希望の方は、備考欄に【郵送案内希望】とご記入ください。

受講について

Zoomを使ったWEB配信セミナー受講の手順

  1. Zoomを使用されたことがない方は、こちらからミーティング用Zoomクライアントをダウンロードしてください。ダウンロードできない方はブラウザ版でも受講可能です。
  2. セミナー前日までに必ず動作確認をお願いします。
  3. 開催日直前にWEBセミナーへの招待メールをお送りいたします。当日のセミナー開始10分前までに招待メールに記載されている視聴用URLよりWEB配信セミナーにご参加ください。
  • セミナー資料は開催前日までにお送りいたします。
  • 無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。

セミナー趣旨

 半導体製造において、各種汚染は歩留低下を引き起こす。序論として汚染が半導体デバイスにおよぼす影響を示します。それを踏まえて、半導体洗浄に関して説明します。従来の洗浄から最近の洗浄、目的別洗浄について詳細を説明します。洗浄以外の汚染制御技術に関して紹介します。最後に次世代の汚染制御の問題点と洗浄乾燥技術について解説します。洗浄技術は半導体デバイスの品質の向上のために必要である。洗浄の意義を一緒に考えましょう!

習得できる知識

半導体製造における汚染制御と歩留改善に洗浄技術が重要であることが理解できます。最新の洗浄液技術を習得できます 

セミナープログラム

1.序論-汚染が半導体デバイスに与える影響 1-0 クリーン化の重要性 1-1 金属汚染(Fe, Cu等)およびナノパーティクル 1-2 分子汚染(NH3, アミン, 有機物, 酸性成分) 1-3 各種汚染の分析解析方法及びモニタリング技術

2.洗浄技術 2-1 RCA洗浄 2-2 各種洗浄液と洗浄メカニズム-薬液系洗浄 vs. 純水系洗浄 2-3 洗浄プロセスの動向 2-4 乾燥技術 2-5 最先端の洗浄技術とその問題点

3.その他の汚染制御技術 3-1 工場設計 3-2 ウェーハ保管、移送方法

4.次世代の汚染制御の問題点と今後の課題 4-1 新洗浄乾燥技術(SCCO2洗浄乾燥, PK剤乾燥) 4-2 次世代の洗浄、汚染制御の問題点と今後の課題

キーワード:半導体,汚染,制御,洗浄,分析,モニタリング,洗浄液,乾燥SCCO2,セミナー