高感度化フォトレジスト材料の設計術

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開催日 13:00 ~ 16:30 
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主催者 サイエンス&テクノロジー株式会社
キーワード 高分子・樹脂材料   電子材料
開催エリア 全国
開催場所 Live配信セミナー(会社・自宅にいながら受講可能)

~分子設計の基礎とEUV用レジスト材料などの最新研究動向~

高分子・低分子化合物のレジスト材料に関する基礎や評価方法を解説!
EUV用レジスト材料など更なる高感度化が求められる新規レジスト材料の開発指針とは・・・

セミナー講師

関西大学 化学生命工学部 化学・物質工学科 教授 工藤 宏人 氏

【専門】
高分子合成化学、有機合成化学、機能性高分子材料の開発
 
【経歴】
2001年3月 東京工業大学大学院総合理工学研究科物質電子化学専攻博士後期課程 修了博士(工学) 
2001年4月 ~ 2002年3月 山形大学大学院 ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー 講師(中核的研究機関研究員) 
2002年4月 ~ 神奈川大学 助手(工学部 応用化学科) 
2007年4月 ~ 同 助教 (工学部 物質生命化学科) 
2009年4月 ~ 同 准教授 
2012年4月 ~  関西大学 准教授(化学生命工学部 化学・物質工学科) 
2016年4月 ~  同 教授~ 現在に至る

【受賞歴】
2007年 高分子学会「日立化成賞」“環状オリゴマーを基盤とした光機能性材料(レジスト、屈折率変換材料)の開発” 
2012年 合成樹脂工業協会・学術奨励賞 「UV硬化性樹脂の開発を目的とした光機能性ハイパーブランチポリマーの合成」
2019年 合成樹脂工業協会・学術賞 「高性能なネットワーク構造の創製を目的とした新規硬化反応の開発」

セミナー受講料

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受講について

Zoom配信の受講方法・接続確認

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  • セミナー中、講師へのご質問が可能です。
  • 以下のテストミーティングより接続とマイク/スピーカーの出力・入力を事前にご確認いただいたうえで、お申込みください。
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配布資料

  • 製本テキスト(開催前日着までを目安に発送)
    ※セミナー資料はお申し込み時のご住所へ発送させていただきます。
    ※開催まで4営業日~前日にお申込みの場合、セミナー資料の到着が開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。

セミナー趣旨

 フォトレジスト材料は、化学増幅型システムを基盤として、露光システムの変遷と共に進化をしてきた。その進化の変遷について、高分子や低分子を用いたレジスト材料の開発について解説する。さらに、KrF、ArF、EB、およびEUVレジスト材料の合成例と分子設計指針について基礎から応用までを解説する。また、レジスト材料の基礎的な評価方法を解説し、新規なレジスト材料の開発方法について解説しながら、最新のレジスト材料としてEUVレジスト材料の開発方法について解説する。

受講対象・レベル

・新しいレジスト材料の開発に関する研究

習得できる知識

・レジスト材料の合成方法、評価方法、開発方法

セミナープログラム

1.レジスト材料(基礎)
 1.1 原理
 1.2 合成例
 1.3 最新の化学増幅型

2.ポジ型レジスト材料(基礎)
 2.1 合成方法
 2.2 評価方法

3.ネガ型レジスト材料(基礎)
 3.1 合成方法
 3.2 評価方法

4.高分子レジスト材料と低分子レジスト(基礎と応用)
 4.1 合成方法
 4.2 評価方法

5.EUVレジスト材料の評価方法と開発方法の実例(基礎と応用)

6.最新型レジスト材料(メタルレジスト、EB、EUV用レジスト材料)(応用と発展)

  □ 質疑応答 □