リソグラフィー/EUVリソグラフィー技術の基礎、最新技術動向と課題解決策および今後の展望

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開催日 10:30 ~ 16:30 
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主催者 サイエンス&テクノロジー株式会社
キーワード 半導体技術   光学技術   高分子・樹脂材料
開催エリア 全国
開催場所 Live配信セミナー(会社・自宅にいながら受講可能)

半導体微細加工の最新動向、今後の半導体技術動向とは?

ここ数年で大きくシェアを伸ばしているEUVリソグラフィー!
5nm nodeに向けた課題解決へ!半導体微細加工周辺技術を学ぶ!

~レジスト材料プロセス、マスク欠陥技術、ペリクル技術、EUV用光源技、Beyond EUV~

セミナー講師

兵庫県立大学 学長特別補佐(先端科学技術研究担当)、
同 大学 高度産業科学技術研究所 所長、
同 大学 同 研究所 極端紫外線リソグラフィー研究開発センター長、教授 渡邊 健夫 氏

セミナー受講料

定価:49,500円(オンライン受講価格:35,200円)

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1名:46,970円(オンライン受講価格:33,440円)
2名:49,500円(1名分無料:1名あたり24,750円)
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配布資料

  • 製本テキスト(開催前日着までを目安に発送)
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セミナー趣旨

 極端紫外線リソグラフィー(EUVL)技術は30年に開発期間を経て、7 nmおよび5 nm nodeの半導体デバイスの量産に適用されました。しかしながら、さらなる微細化に向けて多くの課題を抱えています。
 EUVL技術の黎明期の基礎技術開発を紹介するとともに、最新技術開発の現状、課題への取り組み、並びに今後の半導体微細加工技術の展開についても詳説します。また、半導体市場の取り巻く環境、並びに日本の半導体技術復興の施策についても言及します。

習得できる知識

極端紫外線リソグラフィー技術について、EUV光源技術、多層膜技術、光学系技術、マスク技術、レジスト技術等、EUVL基盤技術全般に亘り解説します。

セミナープログラム

  1. はじめに
    1. IoTおよびAIに期待すること、社会インフラとの関係
    2. 半導体市場
    3. 半導体国際ロードマップから読み取れること
    4. 半導体微細加工技術の必要性
    5. 今後の半導体技術動向と市場との関係
    6. 今後の半導体技術に期待すること
  2. リソグラフィー技術
    1. リソグラフィー技術の変遷
    2. 黎明期のX線縮小露光技術からEUVリソグラフィー技術への展開
    3. EUVリソグラフィーとは
      ~EUV光源、光学系、レジスト、マスク、露光機の概要~
  3. 兵庫県立大学でのEUVリソグラフィー技術開発の取り組み
    1. 日本、米国のEUVLプロジェクトの変遷
    2. ニュースバル放射光施設の紹介
  4. EUVリソグラフィー技術課題に対する取り組み
    1. レジスト材料プロセス技術
    2. マスク欠陥技術
    3. ペリクル技術
    4. EUV用光源技術
  5. Beyond EUV(EUVリソグラフィーの短波長化)の可能性
  6. 日本の半導体技術の過去、現在、今後
    ~日本の半導体技術の覇権に重要な要素~
  7. まとめ

□質疑応答□