【中止】反射防止材料・コーティングの作り方と製膜，その応用，評価

セミナープログラム

【１０：１５〜１１：４５】

第１部 光学機能性材料のトレンド，反射防止膜の重要性と今後の展望

●講師　(株)ＦＴ−Ｎｅｔ 取締役 技術士(応用理学部門) 　青崎 耕 氏

【講座の趣旨】
　光学機能性材料及びフィルムについて技術の基礎を把握したうえで，特に反射防止フィルムの技術動向・アプリケーション展開等について解説し，今後を展望する。 　

【セミナープログラム】
１．光学機能性材料のトレンド
　　1.1 光学フィルムを構成するフォトニクスポリマー
　　　　1.1.1 光学機能とフォトニクスポリマーの分類
　　　　　　　（PMMA，PC，PET，TACなどに加えて，透明PIや全フッ素樹脂などの新材料を紹介）
　　　　1.1.2 フッ素系フォトニクスポリマーの活用
　　　　　　　（反射防止加工剤，指紋除去剤，インクジェット用バンク材，メタル配線形成材　など）
　　1.2 ディスプレイ光学フィルムの基礎と市場
　　　　1.2.1 ディスプレイ及び光学フィルムの変遷
　　　　1.2.2 ディスプレイ光学フィルムの種類・機能と市場動向
　　　　1.2.3 ディスプレイ光学フィルムの原理・特徴（個別紹介）
　　　　　　　　（反射防止フィルム（反射率，反射色調），偏光板（直線・円・楕円），
　　　　　　　　ナノリンプリント（ワイヤーグリッドなど），輝度向上フィルム，
　　　　　　　　複屈折制御フィルム，量子ドット，など）

２．反射防止膜の重要性と今後の展望
　　2.1 車載用ディスプレイにおける反射防止
　　2.2 有機ELディスプレイにおける反射防止
　　　　（円偏光フィルム方式，カラーフィルター方式）
　　2.3 反射防止膜の今後の動向
　　　　（新規な膜材料，モスアイ反射防止，など）
【質疑応答】

【１２：３０〜１３：４５】

第２部 ナノインプリントによる反射防止加工フィルムの作製と量産化・耐久性向上技術
　 　　　　　　　　　 　　　　 〜 タッチパネル・太陽電池・有機ＥＬ照明への応用 〜

●講師　(株)イノックス 機能性フィルム開発担当　 井上 智晴 氏

【講座の趣旨】
　ナノインプリントは，ナノスケールの微細構造を製造する技術であり， 注目度の高い応用先としてタッチパネル・太陽電池・有機ＥＬ照明などが 挙げられる。反射防止加工において，数百ｎｍサイズの凹凸を無数に配列し たモスアイ構造は，蛾の目を模した生体模倣技術の応用であり，性能の面で優 れた手法であると注目されている。本セミナーでは，光拡散の制御可能な拡散 性モスアイフィルムと大面積金型を製造する干渉リソグラフィ技術，連続的な ナノインプリント成型による量産化技術について紹介する。

【セミナープログラム】
１．ナノインプリントの概要 　
　　1.1 ナノインプリントとは 　
　　1.2 想定アプリケーション（タッチパネル，太陽電池，有機ＥＬ照明など）
２．ナノインプリントによる量産化技術 　
　　2.1 量産化への課題　
　　2.2 Roll-to-Roll方式ナノインプリントによる量産　　
　　2.3 隠蔽性
３．拡散性モスアイフィルム 　
　　3.1 モスアイ構造による反射防止機能 　
　　3.2 拡散性モスアイ構造による光拡散制御 　
　　3.3 干渉リソグラフィによる大面積化技術
【質疑応答】

【１４：００〜１５：１５】

第３部 陽極酸化ポーラスアルミナを用いた反射防止膜の製膜技術

●講師　東京都立大学 都市環境学部　環境応用化学科　准教授 博士(工学)　柳下 崇 氏

【講座の趣旨】
　Alの陽極酸化によって形成されるナノホールアレー構造材料である陽極酸化ポー ラスアルミナを鋳型とした反射防止膜の製造技術とその評価に関して紹介する．

【セミナープログラム】
１．陽極酸化の基礎
　　1.1 陽極酸化ポーラスアルミナの形成
　　1.2 高規則性ポーラスアルミナの形成方法
　　1.3 高規則性ポーラスアルミナの構造制御
　　1.4 高規則性アルミナスルーホールメンブレンの形成
２．高規則性ポーラスアルミナを用いたナノインプリントプロセス
　　2.1 ポーラスアルミナモールドの形成
　　2.2 ナノインプリントによる規則パターン形成
　　2.3 ロール状モールドを用いた連続インプリント
　　2.4 インプリントによるナノマイクロ階層構造の形成と撥水表面への応用
３．ナノインプリントプロセスによるモスアイ構造の形成
　　3.1 モスアイ構造形成用ポーラスアルミナモールドの形成
　　3.2 ナノインプリントによるモスアイ構造の形成
　　3.3 突起形状制御による特性最適化
　　3.4 射出成型によるモスアイ構造の形成
　　3.5 新生特性を有するモスアイ表面の構築
【質疑応答】

【１５：３０〜１６：４５】

第４部 硬反射防止コートの設計と湿式法による作製

●講師　(株)ＫＲＩ 構造制御材料研究部 主席研究員 　羽山 秀和 氏

【講座の趣旨】
　反射防止コートの種類と原理と設計方法および湿式法としてゾル‐ゲル法による成膜技術について解説します。また，エクセルを用いて光学干渉による反射スペクトルのシミュレーションを実践します。

【セミナープログラム】
１．反射防止コートの種類
　　1.1 アンチグレア（AG）
　　1.2 アンチリフレクション（AR）
　　1.3 AGとARの併用
　　1.4 無反射コート（モスアイ構造）
２．反射防止コートの原理と設計方法
　　2.1 光学干渉による反射防止の原理
　　2.2 光学干渉による反射防止シミュレーション
　　2.3 モスアイ構造による反射防止の原理
　　2.3 モスアイ構造による反射防止シミュレーション
３．反射防止コートの作製技術
　　3.1 乾式法と湿式法
　　3.2 ゾル‐ゲル法とは
　　3.3 ゾル‐ゲル法の応用例
　　3.4 ゾル‐ゲル法による成膜技術
【質疑応答】

セミナー講師

【第1部】(株)ＦＴ−Ｎｅｔ 取締役 技術士(応用理学部門) 　青崎 耕 氏
【第2部】(株)イノックス 機能性フィルム開発担当　 井上 智晴 氏
【第3部】東京都立大学 都市環境学部　環境応用化学科　准教授 博士(工学)　柳下 崇 氏
【第4部】(株)ＫＲＩ 構造制御材料研究部 主席研究員 　羽山 秀和 氏

セミナー受講料

1名につき66，000円（消費税込み，資料付）
〔1社2名以上同時申込の場合のみ1名につき60，500円〕

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