以下の類似セミナーへのお申込みをご検討ください。
高分子の結晶化,結晶高次構造の制御,分析解析,その応用
高分子結晶化の基礎と制御および分析技術
樹脂のレオロジー特性の考え方,成形加工時での流動解析の進め方
粉末X線回折法(XRD)を用いた材料評価テクニック~基礎から実際の評価・解析例まで~
光学用透明樹脂の基礎と光学特性制御および高機能化
高分子複合材料のレオロジーとメカニズムに基づく材料設計
フィルム製膜における延伸・配向制御,その評価と応用
分子シミュレーションの基礎と高分子材料の研究・開発の効率化への展開
流動場での、高分子の結晶化・挙動と成形プロセス中での結晶化解析
43,200 円(税込)
※本文中に提示された主催者の割引は申込後に適用されます
※銀行振込 または、当日現金でのお支払い
このセミナーの申込みは終了しました。
よくある質問はこちら
このセミナーについて質問する開催日 |
13:00 ~ 16:30 締めきりました |
---|---|
主催者 | サイエンス&テクノロジー株式会社 |
キーワード | 高分子・樹脂技術 |
開催エリア | 東京都 |
開催場所 | 【大田区】東京流通センター |
交通 | 【モノレール】流通センター駅 |
【成形中の高分子結晶化は静置場とは全く違います。本質的な考え方を徹底解説!】
★ 成形プロセスにおける高分子の結晶化挙動は静置場とは全く違った様相を呈します。
★ 結晶化速度は流動の影響で数千倍・数万倍になり、結晶化の核剤はほとんど役に立たなくなります。
★ 実際のものづくりの場での高分子の結晶化の本質的な考え方について解説します。
講師
東京工業大学 大学院理工学研究科 有機・高分子物質専攻 教授 鞠谷 雄士 氏
【略歴】
2001年 助教授、2009年 教授
専門は、繊維・高分子材料の成形加工と構造・物性
プラスチック成形加工学会 元会長、繊維学会 会長
受講料
43,200円 ( S&T会員受講料 41,040円 )
(まだS&T会員未登録の方は、申込みフォームの通信欄に「会員登録情報希望」と記入してください。詳しい情報を送付します。ご登録いただくと、今回から会員受講料が適用可能です。)
【キャンペーン!2名同時申込みで1名分無料(1名あたり定価半額 の21,600円)】
※2名様ともS&T会員登録をしていただいた場合に限ります。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※3名様以上のお申込みの場合、上記1名あたりの金額で追加受講できます。
※受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
※請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
(申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」と記入ください。)
※他の割引は併用できません。
趣旨
成形プロセスにおける高分子の結晶化挙動は静置場とは全く違った様相を呈する。結晶化速度は流動の影響で数千倍・数万倍になり、一方、結晶化の核剤はほとんど役に立たない。さらに、結晶化により溶けたものが固化することを考慮しないと、成形プロセスの流動場の解析が成り立たない。
本講では、多くの事例を交えながら、実際のものづくりの場での高分子の結晶化の本質的な考え方について述べる。
プログラム
<得られる知識・技術>
・結晶化速度論(結晶化速度と温度の関係、結晶化速度に及ぼす分子配向の影響)
・分子配向形成論(応力―光学則、流動誘起結晶化と結晶化に伴う自発的配向形成)
・ポリマー種による成形条件の選び方と分子配向、結晶化挙動の関係
・絡みあいの影響についての事例
・複合成形における高次構造形成におよぼす成分間の運動力学的相互作用 を学ぶことができます。
<プログラム>
1.成形プロセス中の結晶化の基礎
1.1 冷却過程での結晶化
・準静的扱い
・アブラミの式の非等温系への拡張
・結晶化潜熱の発生速度と冷却速度
・準静的扱いの限界
・核形成・成長
1.2 流動場での結晶化
・応力-光学則、結晶化速度の配向度依存性、流動の記憶効果
・シシーケバブ構造形成
2.成形プロセス中の結晶化の解析事例
2.1 オンライン計測手法
・温度計測
・応力計測
・速度計測
・複屈折計測
・X線回折測定
2.2 溶融紡糸過程の解析
・温度測定による配向結晶化速度解析
・複屈折計測による結晶化挙動の推定
・広角X線回折測定による結晶化挙動解析
2.3 フィルム成形過程
・一軸伸長過程・二軸伸長過程の結晶化
・面配向
2.4 溶融成形過程の移動現象論と高次構造形成
・高次構造形成を伴う系のモデル化
・熱収支
・構成則への影響
□質疑応答・名刺交換□