ＥＵＶリソグラフィー技術の基礎、最新技術動向と課題解決策および今後の展望

セミナー講師

兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 所長・教授　渡邊 健夫 氏
＜経歴・研究歴＞
昭和６１年　関西医科大学教養部物理学教室非常勤講師
平成　２年　大阪市立大学大学院理学研究科後期博士課程修了　理学博士
平成　２年　シャープ（株）中央研究所　DRAMの研究開発に従事
光リソグラフィー、電子線リソグラフィー、X線等倍露光、極端紫外線リソグラフィーの半導体微細加工の研究開発に従事
平成　８年　旧姫路工業大学高度産業科学技術研究所助手
　　　　　　極端紫外線リソグラフィーの研究開発に従事
平成１６年　兵庫県立大学高度産業科学技術研究所助教
　　　　　　極端紫外線リソグラフィーの研究開発に従事
平成２０年　兵庫県立大学高度産業科学技術研究所准教授
平成２７年　兵庫県立大学高度産業科学技術研究所教授
　　　　　　同研究所極端紫外線リソグラフィー研究開発センター　センター長
平成２８年　兵庫県立大学高度産業科学技術研究所 所長・教授
＜受賞歴＞
1) 第７回日本物理学会論文賞, 渡邊健夫他、3月26日，2002.
2) Best Poster Award 1st Place, Takeo Watanabe, 2008 International Workshop on EUV Lithography, 2008.6.12.
3) Best Paper Award, Takeo Watanabe, 2013 International Workshop on EUV Lithography, 2013.6.14.
4) 大阪ニュークリアサイエンス協会賞, 渡邊健夫, 2016.5.26.
＜国際学会の活動＞
1) フォトポリマー国際会議（International Conference of Photopolymer Science and Technology (ICPST).）、理事、国際局長、EUVL国際シンポジウム議長
2) フォトマスクジャパン（International Conference on Photomask Japan）、組織委員会委員長
3) International Conference on Electron, Ion, and Photon Beam Technology and Nanofabrication (EIPBN)、プログラム委員
4) nternational Roadmap for Device and System (IRDS), Lithography Committee member

セミナー受講料

49,500円( S&T会員受講料47,020円 )
(まだS&T会員未登録の方は、申込みフォームの通信欄に「会員登録情報希望」と記入してください。
詳しい情報を送付します。ご登録いただくと、今回から会員受講料が適用可能です。)
S&T会員なら、2名同時申込みで1名分無料
2名で 49,500円 (2名ともS&T会員登録必須／１名あたり定価半額24,750円)

【1名分無料適用条件】
※2名様ともS&T会員登録が必須です。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※3名様以上のお申込みの場合、１名あたり定価半額で追加受講できます。
※受講券、請求書は、代表者に郵送いたします。
※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です。
　(申込みフォームの通信欄に「請求書１名ごと発行」と記入ください。)
※他の割引は併用できません。

セミナー趣旨

習得できる知識

極端紫外線リソグラフィー技術について、EUV光源技術、多層膜技術、光学系技術、マスク技術、レジスト技術等基盤技術全般に亘り解説します。

セミナープログラム