セミナーに関する質問

ご質問を下記に記入していただければ、至急調査してお応えします。（営業時間　平日9時から18時）

参加セミナー名 【中止】半導体表面におけるウェットプロセスの基礎と最新動向 ～ウェット洗浄から極微表面計測、触媒アシストエッチングまで～ 【大阪開催】
開催日 10:30 ～ 16:30
開催場所 大阪産業創造館　5F　研修室E