＜半導体デバイス向けプラズマ装置による高品質成膜へ＞プラズマＣＶＤ（化学気相堆積）装置による高品質薄膜の成膜技術、および量産化対応

セミナー趣旨

習得できる知識

プラズマCVD装置に関して、開発してきた技術や課題と対策について知ることができます。

セミナープログラム

セミナー講師

SPPテクノロジーズ(株)
製造部 次長　兼　生産管理グループ長　兼　マーケティング部 マネジャー　金尾 寛人　氏

【経歴・研究内容・専門・活動】
1989年3月　名古屋工業大学 工学部 第一部 電気情報工学科を卒業．
1989年4月　住友金属工業(株)に入社．
Si基板上GaAs膜のヘテロエピタキシー成膜技術の研究開発(1年)や半導体デバイス向けECRプラズマ装置による成膜、エッチング技術の研究開発及び商品開発(10年)
2000年4月　住友精密工業(株)に入社(派遣、2002年3月転籍、2011年12月にSPPテクノロジーズに出向)
MEMSや光デバイス向けプラズマ装置による成膜、エッチング技術の研究開発及び商品開発(3年半)
装置全般の技術営業、マーケティング（現在）

セミナー受講料

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＜1名分無料適用条件＞
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※3名様以上のお申込みの場合、１名あたり定価半額で追加受講できます。
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※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です。
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※他の割引は併用できません。

主催者

開催場所

受講について

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配布資料

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