＜半導体デバイス向けプラズマ装置による高品質成膜へ＞プラズマＣＶＤ（化学気相堆積）装置による高品質薄膜の成膜技術、および量産化対応
■装置メーカーの立場から、プラズマCVD装置の技術／課題と対策を解説■
★ 30年以上の実績・経験がある装置メーカーから、実務レベルで解説いたします！
日時
【Live配信(アーカイブ付き)】 2025年6月19日（木） 13:00～16:30
【アーカイブの視聴期間】2025年6月20日(金)～6月26日(木)を予定
受講可能な形式：【Live配信(アーカイブ配信付)】のみ
★ アーカイブ受講のみもOKです。
セミナー趣旨
習得できる知識
プラズマCVD装置に関して、開発してきた技術や課題と対策について知ることができます。
セミナープログラム
1.1 プラズマCVD装置の構成
1.2 反応チャンバーの基本構成
２．プラズマCVD装置の用途
2.1 適用アプリケーション
３．プラズマCVD装置のプロセス性能
3.1 SiH4系SiO2膜
3.2 SiH4系SiN膜
3.3 SiH4系SiON膜
3.4 SiH4系a-Si膜
3.5 SiH4系SiC膜
3.6 TEOS系SiO2膜
3.7 液体ソース系SiN膜
４．開発用装置と量産用装置
4.1 プラットフォーム
５．プラズマCVD装置の課題と対策
5.1 高レート化
5.2 プロセスの再現性
5.3 低パーティクル
5.4 チャンバークリーニング
5.5 ウェーハ温度の低温化
5.6 ウェーハ大口径化 など
□質疑応答□
セミナー講師
SPPテクノロジーズ(株)
製造部 次長 兼 生産管理グループ長 兼 マーケティング部 マネジャー 金尾 寛人 氏
【経歴・研究内容・専門・活動】
1989年3月 名古屋工業大学 工学部 第一部 電気情報工学科を卒業．
1989年4月 住友金属工業(株)に入社．
Si基板上GaAs膜のヘテロエピタキシー成膜技術の研究開発(1年)や半導体デバイス向けECRプラズマ装置による成膜、エッチング技術の研究開発及び商品開発(10年)
2000年4月 住友精密工業(株)に入社(派遣、2002年3月転籍、2011年12月にSPPテクノロジーズに出向)
MEMSや光デバイス向けプラズマ装置による成膜、エッチング技術の研究開発及び商品開発(3年半)
装置全般の技術営業、マーケティング（現在）
セミナー受講料
49,500円 ( E-Mail案内登録価格 46,970円 )
1名分無料適用条件
2名様以降の受講者は、申込み前にE-mail案内登録をお済ませください。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※請求書(クレジットカード決済の場合は領収書)は、代表者にS&T会員マイページにてPDF発行いたします。
※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です。
(申込みフォームの通信欄に「請求書１名ごと発行」と記入ください。)
※他の割引は併用できません。
2名で49,500円（2名ともE-Mail案内登録必須／１名あたり定価半額の24,750円）
| テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【オンライン配信セミナー受講限定】 |
定価：本体36,000円＋税3,600円 E-Mail案内登録価格：本体34,400円＋税3,440円
※１名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。
※お申込みの際、備考欄に【テレワーク応援キャンペーン希望】と記載ください。
※他の割引は併用できません。
受講について
ZoomによるLive配信 ►受講方法・接続確認（申込み前に必ずご確認ください）
アーカイブ配信 ►受講方法・視聴環境確認（申込み前に必ずご確認ください）
配布資料
- PDFテキスト(印刷可・編集不可)
受講料
49,500円（税込）/人
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