半導体用レジストの基礎、材料設計、プロセス、評価方法
開催日 | 10:30 ~ 16:30 |
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主催者 | サイエンス&テクノロジー株式会社 |
キーワード | 半導体技術 電子材料 高分子・樹脂材料 |
開催エリア | 全国 |
開催場所 | 【Live配信】オンライン配信セミナー |
~ 感光性レジスト、リソグラフィー工程、レジストの基本原理・特性、材料設計 ~
■レジスト製造の基礎知識、材料設計指、使用の留意点■ノボラック系ポジ型レジスト、化学増幅型レジスト■リソグラフィープロセス、レジストプロセス
・レジスト、リソグラフィー、ノボラック系ポジ型レジスト、レジスト現像アナライザ(RDA)、化学増幅ポジ型レジスト、ベース樹脂、溶解抑制剤、酸発生剤、i線厚膜レジスト、、、 ・ノボラック系ポジ型レジスト、及び化学増幅系3成分 (ベース樹脂、溶解抑制剤、酸発生剤) ポジ型レジストのそれぞれの化学成分とレジスト特性との関係 ・デバイスメーカーの視点からレジスト評価法の具体的な手法も解説 レジストの材料、プロセスに携わる方々は是非!
日時
【Live配信】 2024年5月28日(火) 10:30~16:30【アーカイブ配信】 2024年6月11日(火) まで受付(視聴期間:6/11~6/24) 受講可能な形式:【Live配信】or【アーカイブ配信】のみ
セミナー講師
セミナー受講料
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テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【オンライン配信セミナー受講限定】 1名申込みの場合:受講料( 定価:41,800円/E-mail案内登録価格 39,820円 )※1名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。※他の割引は併用できません。
受講、配布資料などについて
Zoom配信の受講方法・接続確認
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アーカイブ配信の受講方法・視聴環境確認
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配布資料PDFテキスト(印刷可・編集不可)その他注意事項※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。
セミナー趣旨
受講対象・レベル
・レジスト材料・プロセスの研究や開発に関わる方・半導体、ディスプレイ、MEMSなどのデバイス開発、製造、販売に携わる方・レジストメーカー、およびレジストメーカーに原料を提供する素材メーカーの方
習得できる知識
・レジストを製造するための基礎知識、材料設計指針・レジストを使用する際の留意事項・リソグラフィープロセスについて・素材メーカー、レジストメーカーとしてのデバイスメーカー対応能力・レジスト材料(ノボラック系ポジ型レジスト、化学増幅型レジスト)・レジストプロセスについて