半導体デバイスにおける洗浄技術の基礎と技術動向と今後の課題

～洗浄メカニズムと歩留低下技術・汚染制御技術・次世代の洗浄技術～

 受講可能な形式：【Live配信】のみ

微細化が止まらない半導体技術に伴い、重要性が増してきている半導体の洗浄技術次世代半導体に対応するための汚染制御・洗浄乾燥技術とは・・・洗浄技術の基礎から歩留改善のための技術について経験豊富な講師がわかりやすく解説

セミナー講師

セミナー受講料

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49,500円( E-mail案内登録価格46,970円 )E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料2名で 49,500円 (2名ともE-mail案内登録必須／１名あたり定価半額24,750円)

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※テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【オンライン配信セミナー受講限定】１名申込みの場合：37,400円 ( E-Mail案内登録価格 35,640円 )※１名様でオンライン配信セミナーをお申込みの場合、上記キャンペーン価格が自動適用になります。 ※他の割引は併用できません。

受講について

Zoom配信の受講方法・接続確認

• 本セミナーはビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信となります。PCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
• 申込み受理の連絡メールに、視聴用URLに関する連絡事項を記載しております。
• 事前に「Zoom」のインストール(または、ブラウザから参加)可能か、接続可能か等をご確認ください。
• セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
• セミナー中、講師へのご質問が可能です。
• 以下のテストミーティングより接続とマイク/スピーカーの出力・入力を事前にご確認いただいたうえで、お申込みください。≫ テストミーティングはこちら

配布資料

• 製本テキスト(開催前日着までを目安に発送)※セミナー資料はお申し込み時のご住所へ発送させていただきます。※開催まで4営業日～前日にお申込みの場合、セミナー資料の到着が開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。

セミナー趣旨

受講対象・レベル

研究開発および製造業務にたずさわっている中堅、若手や新人の方対象です。特に予備知識は必要ありません。基礎から解説いたします。

習得できる知識

〇半導体製造における汚染制御と歩留改善に洗浄技術が重要であることが理解できる。〇最新の洗浄液技術を習得できます。

セミナープログラム

１．序論－汚染が半導体デバイスに与える影響　1.1  クリーン化の重要性　1.2　金属汚染(Fe, Cu等)およびナノパーティクル　1.3　分子汚染(NH3, アミン, 有機物, 酸性成分)　1.4　各種汚染の分析解析方法及びモニタリング技術

２．洗浄技術　2.1　RCA洗浄　2.2　各種洗浄液と洗浄メカニズム-薬液系洗浄　vs. 純水系洗浄　2.3　洗浄プロセスの動向　2.4　乾燥技術　2.5　最先端の洗浄技術とその問題点

３．その他の汚染制御技術　3.1　工場設計　3.2　ウェーハ保管、移送方法

４．次世代の汚染制御の問題点と今後の課題　4.1　新洗浄乾燥技術(SCCO2洗浄乾燥, PK剤乾燥)　4.2　次世代の洗浄、汚染制御の問題点と今後の課題

　　□ 質疑応答 □