グラフェン系材料の特性・基礎と高機能化・応用への展開
| 開催日 |
13:00 ～ 16:30 締めきりました |
|---|---|
| 主催者 | サイエンス＆テクノロジー株式会社 |
| キーワード | 電子材料 ナノ構造化学 炭素系素材 |
| 開催エリア | 全国 |
| 開催場所 | Live配信セミナー(会社・自宅にいながら受講可能) |
■グラフェンの特徴・合成方法、CVDグラフェンの転写技術、物性を引き出す構造作製の要素技術■
■ドーピングや積層、複合化による高機能化技術、原子層の評価技術
■透明導電膜や電子・光デバイス、エネルギー応用への展開、実用化への課題・今後への期待■
★ キャリア移動度がSiの100倍以上、熱伝導度が銅の10倍以上等の優れた物性を持つグラフェン！
★ 基礎から応用、最新動向を学びます。
【特典】
■アーカイブ配信
このセミナーはアーカイブ付きです。セミナー終了後も繰り返しの視聴学習が可能です。
Live受講に加えて、アーカイブでも一定期間視聴できます。
視聴期間：2023年6月27日(火)～7月3日(月)まで
セミナー講師
(国研)産業技術総合研究所 ナノカーボンデバイス研究センター 研究チーム長 山田 貴壽 氏
＜経歴＞
1998年3月 東海大学大学院工学研究科博士前期課程電子工学専攻 修了
1998年4月 青山学院大学理工学部電気電子工学科 助手
2003年4月 東北大学多元物質科学研究所 助手
2004年1月 産業技術総合研究所 ダイヤモンド研究センター
2010年4月 同 ナノチューブ応用研究センター
2015年3月 同 ナノ材料研究部門
2022年4月 同 ナノカーボンデバイス研究センター
＜研究内容＞
グラフェン、ダイヤモンド、窒化ホウ素、電気特性評価、仕事関数、電子放出、光電子分光、CVD、ドーピング、センサー
＜WebSite＞
https://unit.aist.go.jp/ncdrc/ja/groups/twodmat.html
セミナー受講料
※お申込みと同時にS&T会員登録をさせていただきます(E-mail案内登録とは異なります)。
44,000円( E-mail案内登録価格41,800円 )
E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料
2名で 44,000円 (2名ともE-mail案内登録必須／１名あたり定価半額22,000円)
【1名分無料適用条件】
※2名様ともE-mail案内登録が必須です。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※3名様以上のお申込みの場合、１名あたり定価半額で追加受講できます。
※請求書（PDFデータ）は、代表者にE-mailで送信いたします。
※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です。
(申込みフォームの通信欄に「請求書１名ごと発行」と記入ください。)
※他の割引は併用できません。
※テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【Live配信/WEBセミナー受講限定】
１名申込みの場合：35,200円 ( E-Mail案内登録価格 33,440円 )
※WEBセミナーには「アーカイブとオンデマンド」が含まれます。
※1名様でお申込み場合、キャンペーン価格が自動適用になります。
※他の割引は併用できません。
受講について
Zoom配信の受講方法・接続確認
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- 以下のテストミーティングより接続とマイク/スピーカーの出力・入力を事前にご確認いただいたうえで、お申込みください。
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配布資料
- 製本テキスト(開催前日着までを目安に発送)
※セミナー資料はお申し込み時のご住所へ発送させていただきます。
※開催まで4営業日～前日にお申込みの場合、セミナー資料の到着が開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。
セミナー趣旨
グラフェンは原子層であるために扱いが困難です。本セミナーでは、グラフェンの特徴や合成方法、CVDグラフェン特有の転写技術、物性を引き出す構造作製の要素技術を、実験室レベルでの扱い方も含めて紹介します。さらに、ドーピングや積層、複合化による高機能化技術、原子層の評価技術を解説し、透明導電膜や電子・光デバイス、エネルギー応用への展開を説明します。最後に、実用化への課題や今後への期待を述べます。
習得できる知識
・グラフェンのCVD合成技術
・CVDグラフェンの転写技術
・グラフェンの評価原理と技術
・グラフェンへのドーピング技術
・グラフェンの積層化技術
・グラフェンの応用展開
セミナープログラム
１．グラフェンの特徴
1.1 電気的特性
1.2 光学的特性
1.3 熱的特性
1.4 バリア性
２．グラフェン形成・合成技術
2.1 機械剥離法
2.2 酸化グラフェンの還元法
2.3 熱CVD法
2.4 プラズマCVD法
2.5 実験室での具体例
2.6 連続CVD合成技術
３．CVDグラフェンの転写技術
3.1 実験室での具体例
3.2 大面積転写技術・連続転写技術
４．グラフェンの評価技術開発
4.1 ラマン分光法による欠陥・層数・応力の評価
4.2 バックゲート型FET構造を用いた電気特性評価
５．グラフェンの高機能化技術
5.1 ドーピング技術
5.2 積層化技術
5.3 加工技術
６．CVDグラフェンの応用
6.1 透明導電膜
6.2 バリア膜・保護膜
6.3 デバイス応用
6.4 厚膜・多層グラフェンの応用例
6.5 垂直配向グラフェンの応用例
6.6 グラフェンによる半導体表面機能化技術
6.7 エネルギー分野応用探索
７．グラフェン産業化への課題
８．まとめ
□質疑応答□