【中止】レジスト材料／プロセスの基礎と実務上の最適化技術

セミナー趣旨

　現在、レジスト材料は、半導体、ディスプレイ、プリント基板、太陽電池、MEMS等の多くの電子産業分野において、世界市場で実用化されています。その市場規模は、年間1500億円におよび年々拡大しています。その反面、レジスト材料プロセス技術の高度化に伴い、フォトレジストの品質が製品に与える影響も深刻化しています。また、レジストユーザーの要求も幅広くなり、レジスト材料および装置メーカー側は対応に追われる状況です。
　本セミナーでは、レジスト材料開発、およびレジスト処理装置関連の技術者、レジストユーザー、リソグラフィでトラブルを抱えている方々を対象に、フォトレジスト材料の特性、プロセスの最適化、付着・濡れ・欠陥といった各種トラブルに注目し、評価・解決のアプローチを丁寧に説明します。また、研究開発・トラブルフォローといった実務上での取り組み方について、豊富な実例を交えながら解説します。初心者にも分かりやすく、基礎から学べる内容となっています。また、最近の傾向として、レジスト材料メーカーおよび装置メーカーにおいても、デバイス作製のノウハウと知識が求められてきています。レジストユーザーの視点とは何かを講師の経験も含めて詳述します。
　受講対象者として、レジスト材料開発、電子デバイスメーカー、レジスト処理装置、プリント基板関係の技術者、および、初めてレジスト材料を扱う方、レジストを使用して製品・開発を生産する方、レジスト分野の技術指導をする方など、初心者から実務者まで広範囲の方を想定しています。本セミナー受講後、レジスト開発、レジスト処理装置開発、レジストを使用する上での基本的な考え方、ノウハウ、最適化法、トラブル対処法、ユーザー側での評価手法などが理解できるようになることを目指します。

セミナープログラム

　1　レジスト材料・プロセス・装置概要～市場競争力、デバイス設計、高品位化、ラインマッチング

　2　リソグラフィプロセスの基礎～これだけは習得しておきたい
　　2.1　レジスト材料／プロセスの最適化（レジスト材料概論、プロセスフロー、ポジ型／ネガ型の選択基準、パターン現像）
　　2.2　露光描画技術の最適化（露光システム（ステッパー、スキャナー、EUV）、レイリ―の式、解像力、焦点深度、重ね合わせ技術）
　　2.3　レジストコントラストで制御する（光学像コントラスト、残膜曲線、溶解コントラスト、現像コントラスト、パターン断面形状改善）
　　2.4　レジスト処理装置の最適化（HMDS処理、コーティング、現像、レジスト除去の要点）
　　2.5　シミュレーション技術…効果的な技術予測（レジスト形状、ノズル塗布、スピンコート、パターン内3次元応力解析）

　3　レジスト欠陥・トラブル対策～歩留り向上の最優先対策とは
　　3.1　致命欠陥とは（配線上異物、ショート欠陥、バブル欠陥、塗布ミスト、接触異物）
　　3.2　パターン剥離メカニズムとその影響因子とは（付着エネルギーと応力歪み、検査用パターン、直接剥離DPAT法）
　　3.3　レジスト膜欠陥と対策（ストリーエーション、膜分裂（自己組織化）、乾燥むら、ベナールセル、環境応力亀裂、ピンホール、膨れ（ブリスター）、はじき）

　4　参考資料
　　・塗膜トラブルQ&A事例集（トラブルの最短解決ノウハウ）
　　・表面エネルギーによる濡れ・付着性解析法（測定方法）

　5　質疑応答
　　（日頃のトラブルサポートなどに個別に応じます）

セミナー講師

河合　晃（かわいあきら）　氏　 　　　

国立大学法人長岡技術科学大学　名誉教授（博士（工学））　/　アドヒージョン株式会社　代表取締役社長

 ＜経歴、等＞ 　三菱電機（株）ULSI研究所にて10年間勤務し、レジスト開発・試作・量産移管・歩留り・工場管理の業務に従事し、半導体デバイスの高精度な表面処理技術開発に従事した。その後、長岡技術科学大学にて勤務し、機能性薄膜、表面界面制御、実装技術、ナノデバイスなどの先端分野の研究を実施している。
　各種論文査読委員、NEDO技術委員、国および公的プロジェクト審査員などを歴任。大学ベンチャー企業として、アドヒージョン（株）代表取締役　兼務。企業への技術コンサルティングを推進している。著書33件、受賞多数、原著論文166報、国際学会124件、特許多数、講演会200回以上、日本接着学会評議員、応用物理学会会員、産学連携・技術コンサルティング実績200社以上。

セミナー受講料

お1人様受講の場合　50,600円[税込]／1名
1口でお申込の場合　62,700円[税込]／1口（3名まで受講可能）
 
受講申込ページで2～3名を同時に申し込んだ場合、自動的に1口申し込みと致します。

受講について

• 本セミナーの受講にあたっての推奨環境は「Zoom」に依存しますので、ご自分の環境が対応しているか、お申込み前にZoomのテストミーティング（http://zoom.us/test）にアクセスできることをご確認下さい。
• インターネット経由でのライブ中継ため、回線状態などにより、画像や音声が乱れる場合があります。講義の中断、さらには、再接続後の再開もありますが、予めご了承ください。
• 受講中の録音・撮影等は固くお断りいたします。