シリカナノ粒子合成の基礎と化学修飾

セミナー趣旨

シリカナノ粒子（コロイダルシリカ）とは、二酸化ケイ素から構成される数十〜数百 nm の球状粒子のことであり、粒径制御が容易で光学的に透明であり、絶縁性や機械的強度に優れているため、基礎研究から産業界まで広く利用されています。本講演では、シリカナノ粒子の合成およびその化学修飾（化学吸着および物理吸着）について古典的な手法から最先端の技術まで概説します。単なる技術の紹介にとどまらず、それら合成（修飾）法の設計指針にまで踏み込んでお話しします。また、書面上では説明しづらい、講演者が長い年月をかけて習得したシリカナノ粒子の合成（修飾）時の勘所についても、できる限りお伝えします。

習得できる知識

・さまざまなシリカナノ粒子の合成法
・シリカナノ粒子の粒径を制御するための方法
・シリカナノ粒子の溶媒分散性を向上させるための方法
・シリカナノ粒子の機能化のための化学修飾（化学吸着および物理吸着）の方法

セミナープログラム

１．始めに

２．ナノ粒子の科学
　2.1 シリカナノ粒子の性質
　2.2 ナノ粒子合成の科学（ラメールのダイヤグラム）
　2.3 ナノ粒子分散の科学（DLVO理論）

３．一般的なシリカナノ粒子の合成法と粒径制御
　3.1 ストーバー法
　3.2 逆ミセル法
　3.3 シード媒介成長法

４．内部に空隙部を有するシリカナノ粒子の合成法
　4.1 メソポーラスシリカナノ粒子
　4.2 ラトル型シリカナノ粒子
　4.3 中空シリカナノ粒子

５．化学吸着によるシリカナノ粒子の機能化
　5.1 ストーバー法（内部修飾）
　5.2 逆ミセル法（内部修飾）
　5.3 シランカップリング剤による修飾（表面修飾）
　5.4 高分子による修飾（表面修飾）

６．物理吸着によるシリカナノ粒子の機能化
　6.1 ストーバー法（内部修飾）
　6.2 逆ミセル法（内部修飾）
　6.3 シード媒介成長法（表面修飾）
　6.4 高分子による修飾（表面修飾）
　6.5 再沈殿法（表面修飾）

７．終わりに

キーワード：
シリカ,ナノ粒子,合成,粒径制御,化学吸着,物理吸着,機能化,表面修飾,セミナー
 

セミナー講師

和歌山大学 システム工学部 准教授・博士（工学）　中原 佳夫 氏
＜略歴＞
　2005年3月　大阪大学大学院工学研究科分子化学専攻 博士後期課程修了
　2005年4月　先端医療振興財団細胞組織工学研究グループ 研究員
　2006年4月　和歌山大学システム工学部精密物質学科 助手
　2007年4月　和歌山大学システム工学部精密物質学科 助教
　2013年4月　和歌山大学システム工学部精密物質学科 准教授
　2015年4月　和歌山大学システム工学部システム工学科 准教授　　現在に至る
　　この間：2017年8-9月　パデュー大学薬学部 客員研究員
【専門】分析化学、ナノ材料化学（特に溶媒分散系におけるシリカナノ粒子の化学修飾）
【学会】日本分析化学会近畿支部　幹事
【受賞歴】 近畿分析化学技術研究奨励賞（2016年）、Outstanding Reviewer Award in Analytical Sciences（2019年）　
【著書】　機器分析ハンドブック1 有機・分光分析編（分担執筆、化学同人）、シリカ粒子の作製と活用動向（分担執筆、シーエムシー出版）
【ホームページ】　https://web.wakayama-u.ac.jp/~nakahara/

セミナー受講料

49,500円（税込、資料付）
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　 2名同時申込の場合計49,500円（2人目無料：1名あたり24,750円）で受講できます。
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