【中止】材料新機能の開発者に向けた 原子層プロセス（ＡＬＤ/ＡＬＥ）の基本と応用・最新動向

セミナー趣旨

　表面吸着プリカーサ分子を介する表面化学反応の繰り返しを用いる原子層プロセスはＡＬＤなど、
現在、ＵＬＳＩ微細化を筆頭に各種ガスバリア膜、太陽電池、触媒、フォトニクス、
生体適合材料など年々、応用が広がってきている。
　本講義ではこの分野の歴史と最新の動向を紹介、既存あるいは試作装置を使う上で
留意すべき点を解説するとともに、汎用あるいは自作装置におけるプロセスその場観察手段として
もっとも基本的なＱＣＭ測定について原理と課題、対策の詳細を解説する。

受講対象・レベル

研究開発、生産技術業務に携わって２～３年の技術者、
あるいは技術企画で新規事業テーマを検討している技術者

必要な予備知識

特に予備知識は必要ありません。基礎から解説いたします

習得できる知識

　ALD技術の基本と実際に手掛けるときに遭遇する課題と留意点などを理解する。
またその場観察の計測手段として不可欠のQCM測定法について知識を得る。

セミナープログラム

1． 原理発明と歴史：　熱過程とプラズマ支援過程
（１）ＡＬＤ歴史
（２）応用例
（３）熱プロセスの基本と課題、プラズマ支援プロセス

2． プリカーサ分子の実表面への回り込み吸着の時間・空間スケール
（１）　基本プロセスにおける分子輸送モデル
（２）　ユーザ側からみたプリカーサ選択の留意点
（３）　多様なニーズとプロセス装置の進展

3．現実装置におけるプロセスの課題
（１）　パージの不完全性
（２）　プロセス窓と材料利用効率
（３）　試作装置の例（東北大）

4． マイクロバランス（ＱＣＭなど）：その場測定法から読めること
（１） QCMの原理
（２） ALDにおける有用性と課題
（３） 実施例

5．今後の分野展望
　ALD,ALE(Atomic Layer Etching), ASD(Area Selective Deposition)含む展開と課題

【質疑応答・名刺交換】

セミナー講師

東北大学 マイクロシステム融合研究開発センター 研究員 熊野 勝文 氏
【ご専門】
　物理化学
【ご経歴】
　企業でR&Dに従事。定年退職後東北大学大学客員教授として
文科省先端融合領域研究開発プログラムに参加後、現職。

セミナー受講料

49,500円（税込、昼食・資料付）
■ セミナー主催者からの会員登録をしていただいた場合、1名で申込の場合46,200円、
　 2名同時申込の場合計49,500円（2人目無料：1名あたり24,750円）で受講できます。
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