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☆真空蒸着、スパッタ、CVDなどの成膜技術について、
基礎から実務への活用法わかりやすくを解説!
若手や初学者の方にも最適な講座!
講師
三重大学 大学院工学研究科 電気電子工学専攻 准教授 博士(工学) 佐藤 英樹 氏
【ご専門】
薄膜・表面物性工学、ナノ材料工学
【ご略歴】
1996〜2000 アネルバ(株)(現 キヤノンアネルバ) 半導体装置事業部 技術担当
上記期間中、量産用スパッタリング装置、プラズマCVD装置およびMOCVD装置の
開発業務に従事。
2000〜2007 三重大学 大学院工学研究科 電気電子工学専攻 助手
2007〜現在 同 准教授
2002〜2003 米国ノースカロライナ大学チャペルヒル校 客員研究員
上記期間中、各種成膜法を使用したナノカーボン材料の合成およびその応用に
関する研究に従事
【ご所属学会】 応用物理学会、日本真空学会、日本表面科学会、
フラーレン・ナノチューブ・グラフェン学会 会員
受講料
49,980円(税込、昼食・資料付)
■ セミナー主催者からの会員登録をしていただいた場合、1名で申込の場合47,250円、
2名同時申込の場合計49,980円(2人目無料:1名あたり24,990円)で受講できます。
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(セミナーのお申し込みと同時に会員登録をさせていただきますので、
今回の受講料から会員価格を適用いたします。)
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受講対象・レベル
・薄膜作製に関連する研究・開発・製造業務にたずさわって2~3年の若手技術者や新人の方
・薄膜作製に関してある程度の経験はあるが、自分の知識を系統的に整理したい方
必要な予備知識
高等学校程度の物理、化学および数学の知識。できるだけ初学者の方でも
理解できるよう、数式等の使用は最小限にして解説します
習得できる知識
・成膜プロセス設計に必要な基礎知識
・成膜プロセスで発生したトラブル対応に必要な基礎知識
趣旨
スパッタ法や真空蒸着法、化学気相成長(CVD)法は、先端材料研究をはじめ、
電子デバイス,太陽電池,建材、さらには食品産業まで、さまざまな分野で使用されており、
今や我々の生活と切っても切り離せない技術になっています。
エレクトロニクスや真空技術の進歩により、現在では高性能な成膜装置が市販されていますが、
これらを使いこなすには適切な知識が必要です。たとえば、新たな条件で成膜を行おうとすると、
所望の薄膜を得るために条件出しを行わなければなりません。また、成膜プロセスでトラブルが
発生すると、その対処に頭を悩ませることになります。そのようなときに必要になるのが、
成膜技術に関する基本的かつ系統的な知識です。
本講座では、真空蒸着法やスパッタ法、CVD法などを用いた成膜技術に携わる方々を対象に、
これらの技術に関する基礎的かつ系統的な知識を習得し、実際の業務に生かして頂くことを
目標とします。
プログラム
1.成膜技術に必要な真空・表面物性工学
1-1. 気体分子運動論の基礎
1-2. 真空工学の基礎
1-3. 表面物性工学の基礎
2.真空蒸着法
2-1. 真空蒸着法の原理
2-2. 真空蒸着法の種類と装置例
2-3. 真空蒸着法で作製される薄膜の例
2-4. 真空蒸着法を適用する際の留意事項
3.スパッタ法
3-1. スパッタ法の原理
3-2. スパッタ法の種類と装置例
3-3. スパッタ法で作製される薄膜の例
3-4. スパッタ法を適用する際の留意事項
4.化学気相成長(CVD)法
4-1. CVD法の原理
4-2. CVD法の種類と装置例
4-3. CVD法で作製されるさまざまな薄膜の例
4-4. CVD法を適用する際の留意事項
5.薄膜評価法
5-1 表面モルフォロジ、ステップカバレッジ
5-2 膜組成、膜構造
5-3 付着力、膜応力
5-4 電気的特性、光学的特性
6.成膜プロセスで遭遇するトラブル例と対処法
6-1 膜質に関するトラブル
6-2 装置に関するトラブル
【質疑応答・名刺交換】
※セミナーに申し込むにはものづくりドットコム会員登録が必要です
開催日時
10:30 ~
受講料
49,980円(税込)/人
※本文中に提示された主催者の割引は申込後に適用されます
※銀行振込
開催場所
東京都
【江東区】江東区文化センター
【地下鉄】東陽町駅
主催者
キーワード
薄膜、表面、界面技術 半導体技術 電子デバイス・部品
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