半導体製造における洗浄技術の基礎と技術トレンド

半導体製造における汚染制御と歩留改善に
洗浄技術が重要です。

洗浄技術だけでなく次世代の汚染制御の問題点と
洗浄乾燥技術も解説します！

講師

オフィスシラミズ　室長　博士(工学)　白水 好美 氏

＜専門＞ 半導体洗浄、クリーン化、微量分析技術
＜活動等＞
　SEMI シリコンウェーハ委員会テストメソッドタスクフォース委員
　IRDS　歩留向上委員会メンバー
　2008年5月　公益社団法人空気清浄協会　感謝状　白水好美
　2013年12月　SEMI　JRSC(日本地区スタンダード委員会) 功労賞　白水好美

受講料

　49,980円（税込）

■ セミナー主催者からの会員登録をしていただいた場合、1名で申込の場合47,250円、
　 2名同時申込の場合計49,980円（2人目無料：1名あたり24,990円）で受講できます。
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  （セミナーのお申し込みと同時に会員登録をさせていただきますので、
　  今回の受講料から会員価格を適用いたします。）

※ 会員登録とは
　 ご登録いただきますと、セミナーや書籍などの商品をご案内させていただきます。
　 すべて無料で年会費・更新料・登録費は一切掛かりません。

受講対象・レベル

研究開発および製造業務にたずさわっている中堅、若手や新人の方

必要な予備知識

特に予備知識は必要ありません。基礎から解説いたします。

習得できる知識

半導体製造における汚染制御と歩留改善に洗浄技術が重要であることが理解できる。

趣旨

　半導体製造において、各種汚染は歩留低下を引き起こす。序論として汚染が半導体デバイスにおよぼす影響を示します。それを踏まえて、半導体洗浄に関して説明します。従来の洗浄から最近の洗浄、目的別洗浄について詳細を説明します。洗浄以外の汚染制御技術に関して紹介します。最後に次世代の汚染制御の問題点と洗浄乾燥技術について解説します。洗浄技術は半導体デバイスの品質の向上のために必要である。洗浄の意義を一緒に考えましょう！

プログラム

1. 序論－汚染が半導体デバイスに与える影響
　1-1. 金属汚染(Fe, Cu等)およびナノパーティクル
　1-2. 分子汚染(HN3, アミン、有機物、酸性ガス成分)
　1-3. 各種汚染の分析解析方法及びモニタリング技術

2. 洗浄技術
　2-1. RCA洗浄
　2-2. 各種洗浄液と洗浄メカニズム(薬液系洗浄 vs. 純水系洗浄)
　2-3. 洗浄プロセスの動向
　2-4. 最先端の洗浄技術とその問題点

3. その他の汚染制御技術
　3-1. 工場設計
　3-2. ウェーハ保管、移送方法

4. 次世代の汚染制御の問題点と今後の課題
　4-1. 新洗浄乾燥技術(超臨界CO2洗浄乾燥、PK(パターンキーパー)剤乾燥)
　4-2. 次世代の洗浄、汚染制御の問題点と今後の課題

【質疑応答・名刺交換】