フレキシブルディスプレイの最新トレンドとALD(原子層堆積)技術~酸化物薄膜トランジスタの基礎からALD技術・応用まで~

IGZOなど酸化物半導体やLTPS(低温多結晶シリコン半導体)
高性能薄膜トランジスタの作製技術
フレキシブルディスプレイに特有な信頼性劣化現象や
高性能化技術の最新動向


低温多結晶薄膜トランジスタ(LTPS)、酸化物薄膜トランジスタを徹底学習!
注目の原子層堆積(ALD)技術やフレキシブルディスプレイの最新動向も解説します

セミナー趣旨

 フレキシブルディスプレイの開発が加速されている。
本セミナーでは、その発展を支えるコア技術として、IGZOなど酸化物半導体LTPS(低温多結晶シリコン半導体)などを基本材料とした高性能薄膜トランジスタの作製技術について詳しく紹介する。また、フレキシブルディスプレイに特有な信頼性劣化現象や高性能化技術の最新動向について、プロにも初学者にもわかりやすく説明する。
 さらに、ALD(原子層堆積)技術の基礎とその応用技術についても紹介する。

習得できる知識

・ディスプレイの基本原理
・半導体工学の基礎
・酸化物薄膜トランジスタの基礎
・低温多結晶シリコンの基礎
・信頼性評価技術の基礎
・ディスプレイ材料分析技術の基礎

セミナープログラム

1.ディプレイの歴史
2.ディスプレイの基本動作原理
3.低温多結晶薄膜トランジスタ(LTPS)の基礎
 3.1 シリコン薄膜の結晶化技術
 3.2 低温多結晶薄膜トランジスタのプロセス技術
 3.3 低温多結晶薄膜トランジスタデバイス構造
 3.4 低温多結晶薄膜トランジスタ高性能化技術
 3.5 低温多結晶薄膜トランジスタの高信頼性化技術
 3.6 LTPSの新規応用技術

4.酸化物薄膜トランジスタの基礎
 4.1 酸化物薄膜トランジスタの基礎物性
 4.2 酸化物薄膜の低温形成技術
 4.3 酸化物薄膜トランジスタのプロセス技術
  4.3.1 真空プロセス技術
  4.3.2 液体(印刷)プロセス
 4.4 酸化物薄膜トランジスタのデバイス構造
 4.5 酸化物薄膜トランジスタの高性能化技術
 4.6 酸化物薄膜トランジスタの高信頼性化技術

5.原子層堆積(ALD)技術
 5.1 原子層堆積(ALD)技術の基礎
 5.2 原子層堆積(ALD)技術により形成した薄膜素子の特性

6.フレキシブルディスプレイの最新動向

  □質疑応答・名刺交換□

セミナー講師

奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科 教授 浦岡 行治 氏【元・パナソニック(株)】

経歴、活動など
1985年 松下電器産業株式会社(現パナソニック)半導体研究センター
1995年 同社 液晶開発センター
2009年 奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科 教授
   ・応用物理学会フェロー
   ・IEEE シニアメンバー
   ・IEEE/EDS 関西支部チェアー
   ・IEEE/AMFPD 実行委員長
   ・薄膜材料デバイス研究会組織委員

セミナー受講料

49,500円( S&T会員受講料47,020円 )
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詳しい情報を送付します。ご登録いただくと、今回から会員受講料が適用可能です。)
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2名で 49,500円 (2名ともS&T会員登録必須/1名あたり定価半額24,750円)

【1名分無料適用条件】
※2名様ともS&T会員登録が必須です。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※3名様以上のお申込みの場合、1名あたり定価半額で追加受講できます。
※受講券、請求書は、代表者に郵送いたします。
※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です。
 (申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」と記入ください。)
※他の割引は併用できません。


※セミナーに申し込むにはものづくりドットコム会員登録が必要です

開催日時


10:30

受講料

49,500円(税込)/人

※本文中に提示された主催者の割引は申込後に適用されます

※銀行振込 または、当日現金でのお支払い

開催場所

東京都

MAP

【品川区】きゅりあん

【JR・東急・りんかい線】大井町駅

主催者

キーワード

電子デバイス・部品   半導体技術

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