スマートフォンカメラレンズ用樹脂の高屈折率化と成形技術

★複眼化、高画素化などスマホカメラのトレンドを掴み、レンズ開発へのヒントを探る   


カメラの複眼化、高画素化の加速で、レンズ開発には何が重要になるのか?


講師


1. 名雲技術士事務所 名雲 文男 氏

2. 三菱ガス化学(株) 機能化学品カンパニー 企画開発部 光学材料グループ
 主査 加藤 宣之 氏

3. イーヴィグループジャパン(株) テクノロジー部 プロセスエンジニア 黒瀧 宏和 氏


受講料


1名につき55,000円(消費税抜き・昼食・資料付き)
〔1社2名以上同時申込の場合1名につき50,000円(税抜)〕


プログラム


<10:00〜12:00>
1.転換期のCMOSイメージング技術 その最新動向と技術展望
名雲技術士事務所 名雲 文男 氏


【ご略歴】
ソニー(株) 中央研究所、同社半導体事業本部、同社情報機器事業本部(放送用カメラ事業部長)
東京MXTVへ出向、常務取締役技師長、(株)シーアイエス 常務取締役、日本インダストリアルイメージング協会(JIIA)副代表理事、(株)アイジュール 技術顧問(現在)


【講座概要】
CMOSセンサの撮像性能が早や成熟期に到達した。一方、用途がViewingから車載カメラなどSensingへと拡大する。そこでCMOSセンサの開発軸が性能進化から、機能進化へと転換を始めた。撮像システムでもImagingがComputingと融合し、Cognition(認知)へ機能進化を始めている。
本講ではまず、CMOSセンサの理論限界に迫る性能成熟の状況、そして残された課題を解説し、突き進む機能進化の現状を展望する。その挑戦を“光子の持つ全情報を撮像する”と表現する向きもある。次いでCMOSセンサの追い落としを狙う新しいイメージセンサ、赤外線センサ、新概念のセンサ等の開発動向を紹介する。
次に撮像システムの進化について解説する。ひとつはComputational Imagingという撮像機能進化で、スマホ性能を進化させるSensor Fusionや3D Imagingがその一例である。もうひとつはComputer Vision。それが高度化著しいカメラモジュールとともに機器に組み込まれて視覚に頭脳を付加し、IoT時代のEmbeddedVisionとなる。曰く、“カメラのカンブリア爆発”である。


1.CMOSイメージセンサの性能進化
 1.1 CMOSセンサ 性能進化
 1.2 CMOSセンサ 性能成熟 そして課題


2.CMOSイメージセンサの機能進化
 2.1 CMOSセンサ=画素に機能集積
 2.2 CMOSセンサ=3D Logic積層で機能搭載


3.新しいイメージセンサの台頭
 3.1 赤外線イメージセンサ
 3.2 新概念のイメージセンサ


4.Computational Imaging 撮像の機能進化
 4.1 Sensor Fusion
 4.2 3D Imaging


5.カメラモジュール、センサのカメラ化


6.Computer Vision  画像処理の機能進化
 6.1 AI Vision:画像のDeep Learning
 6.2 Embedded Vision


【質疑応答・個別質問・名刺交換】



<12:45〜14:45> 
2.ポリカーボネート樹脂の高屈折率、低複屈折化とレンズの薄型化 
三菱ガス化学(株) 加藤 宣之 氏  


【講座概要】
スマートフォンなどに搭載される小型精密カメラレンズの材料としては、高屈折率・低複屈折材が不可欠である。本講座では、レンズ用途に適応し得る、高屈折率・低複屈折特殊ポリカーボネート樹脂について、分子設計からその構造を明らかにしつつ、主要光学特性の屈折率・アッベ数と複屈折に焦点を当てて解説する。また、レンズにおける特性評価についても述べ、一例を紹介する。


1.特殊ポリカーボネート樹脂の構造
 1.1 ポリカーボネートについて
 1.2 エステル交換法


2.分子構造による屈折特性の制御
 2.1 複屈折の制御
 2.2 高屈折率化と低屈折率化
 2.3 波長分散特性の制御


3.レンズの複屈折
 3.1 レンズ面内複屈折の評価
 3.2 配向複屈折と固有複屈折
 3.3 応力複屈折と光弾性係数
 3.4 分子構造による各複屈折係数のコントロール


4.様々な市場における高屈折率材の展開


【質疑応答・個別質問・名刺交換】



<15:00〜16:30>
3.ナノインプリントによるウェーハレベルオプティクスの形成と高精度接合技術
イーヴィグループジャパン(株) 黒瀧 宏和 氏 


【講座概要】
ウェーハレベルオプティクスはスマートフォン等のカメラモジュールに採用されている他、今後様々な光学センサーへの応用が期待されている。本講座では、ウェーハレベルオプティクス製造に用いられるナノインプリント技術の概要についてご紹介すると共に、各プロセスの詳細およびEVGの各種装置について解説する。


1.ナノインプリント技術概要
 1.1 ナノインプリントとは
 1.2 各種ナノインプリント技術の特徴
 1.3 ナノインプリント技術の応用例


2.ナノインプリントによるウェーハレベルオプティクスの製造
 2.1 ウェーハレベルオプティクス概要
 2.2 S&R法によるウェーハレベルマスターの作成
 2.3 UVモールド法によるウェーハレベルオプティクスの形成


3.ウェーハレベルオプティクスの高精度接合
 3.1 接着剤の転写技術
 3.2 高精度位置合わせ接合技術


4.まとめ


【質疑応答・個別質問・名刺交換】


※セミナーに申し込むにはものづくりドットコム会員登録が必要です

開催日時


10:00

受講料

59,400円(税込)/人

※本文中に提示された主催者の割引は申込後に適用されます

※銀行振込、会場での支払い

開催場所

東京都

MAP

【品川区】技術情報協会セミナールーム

【JR・地下鉄】五反田駅 【東急】大崎広小路駅

主催者

キーワード

半導体技術   高分子・樹脂技術

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