ワイドギャップ半導体の要素技術とその応用

【対象者】

　半導体材料・装置メーカー、電気・電子・半導体・ディスプレイメーカーおよび水処理装置（殺菌・洗浄）などの研究開発・企画戦略・生産製造などに携わる方

【セミナーで得られる知識】

（1）ワイドギャップ半導体の結晶成長技術の現状と課題
（2）最新デバイス技術を理解する上で必要な基礎技術及評価技術
（3） デバイスを作製するためのプロセス及び材料に関する最新技術とその動向
（4）応用と市場動向
したがって、このセミナーの受講で基礎から最新技術まで取得できます。

【趣旨】

　セミナーのテーマに、「ワイドギャップ半導体の要素技術とその応用」を取り上げた理由は、
　① 最近話題のマイクロLEDのデバイス構造、デバイス作製技術、フルーカラー化、モノリシック化等を基礎から最新技術および課題に至るまで分かり易く説明する書籍やセミナーは見当たらない。
　② 気候変動の問題を解決する方法は、人類の最優先事項の一つである。従来の白熱電球や蛍光灯をベースにした日本の一般照明システムの70％以上がLEDランプに置き換えられ、それによって総消費電力を約7％削減することができる。
　③ Deep-UV（DUV）LEDは、水の滅菌および浄化のための効率的で長寿命の装置として使用され、従来のUV殺菌ランプよりも効率的である。ユニセフは、まだ6億6,300万人が安全な飲料水にアクセスできず、24億人が安全衛生施設を使用していないと報告している。
　これらの背景を理解し、セミナーで得られる知識をビジネスに生かせるように、具体的には、ワイドギャップ半導体材料として、窒化物及び酸化物を取り上げる。要素技術としては、結晶成長、デバイス、プロセス、基板材料、評価等、を取り上げる。デバイスに関しては、オプトデバイスとしてのLED、フォトダイオードおよびMOSFETを取り上げ、その応用も取り扱う。

【プログラム】

1．今なぜ　ワイドギャップ半導体
　ノーベル賞受賞天野教授のSID2018
　およびIWN2018基調講演を中心に

2．デバイス
　2.1　LED基礎(内部量子効率、外部量子効率、取り出し効率など)
　2.1　DUVとDUV-LED
　2.2　DUV-LED光取り出し
　2.3　表面プラズモン増強GaN：Eu系発光ダイオード
　2.3　UV-Photo　Diode
　2.4　MOSFET（縦型Ga2O3）

3．結晶成長とデバイス
　3.1　MOCVD
　3.2　スパッタリング
　3.3　ミストCVD

4．基板材料とデバイス
　4.1　サファイア
　4.2　AlN
　4.3　ScAlMgO4（SCAMO）

5．加工技術
　5.1　触媒表面基準エッチング
　5.2　マイクロLED製造装置

6．応用
　6.1　水の滅菌および浄化
　6.2　マイクロLED（UV-LEDを用いたフレキシブル・フルカラーディスプレイ）
　6.3　モノリシック・マイクロLED
　

【講師】

鵜飼 育弘 氏
Ukai Display Device Institute 代表、技術コンサルタント、工学博士

受講料

＊ 49,000円（税込）※ 昼食・資料代含
＊ CMCリサーチメルマガ登録者は 44,000円（税込）
＊ アカデミック価格は 15,000円（税込）

★ アカデミック価格
　学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院の教員、学生に限ります。申込みフォームに所属大学・大学院を記入のうえ、備考欄に「アカデミック価格希望」と記入してください。

★ メルマガ会員特典
　CMCリサーチメルマガ会員登録をされていない方で登録をご希望の方は、申込みフォームの備考欄に「会員登録情報希望」と記入してください。折返し登録のご案内をお送りします。登録していただくと、今回よりメルマガ価格が適用されます。
　2名以上同時申込で申込者全員メルマガ会員登録をしていただいた場合、2人目以降はメルマガ価格の半額です。

★ セミナーお申込み後のキャンセルは基本的にお受けしておりません。ご都合により出席できなくなった場合は代理の方がご出席ください。