クライオエッチングの基礎・現状・課題と最新技術動向

反応メカニズムから高アスペクト比加工・クライオ原子層エッチングまで

　受講可能な形式：【ライブ配信(見逃し配信付)】のみ

デバイスの微細化・高積層化の既存技術における限界が見え始めている中、注目を集める「クライオエッチング」を半日速習！
基本原理から反応メカニズムや加工技術の最新研究動向までを解説します。
 

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    セミナー趣旨

    半導体集積回路デバイスの製造において、プラズマを用いた微細加工、すなわちプラズマエッチングは不可欠なプロセス技術である。トランジスタ、DRAM、NANDに代表されるデバイスでは、従来の微細化および高積層化（スケーリング）が進められてきた。しかし近年、既存技術には物理的・技術的な限界が顕在化しつつある。
    そこで、基板温度を極低温領域まで低下させ、ウェハ表面における反応種の物理吸着および表面拡散を制御するクライオエッチング（cryogenic etching）が注目されている。本講演では、プラズマエッチングの基本原理から、クライオエッチング導入の背景、反応メカニズムの解明、ならびに最新の研究動向について解説する。

    セミナープログラム

    １．エッチング加工とは
    　1.1 等方性エッチング
    　1.2 異方性エッチング

    ２．ドライプロセスエッチング
    　2.1 低温プラズマの基礎原理と知識
    　2.2 プラズマエッチングと装置
    　2.3 プラズマエッチングメカニズム
    　2.4 高アスペクトエッチング

    ３．クラオイエッチング
    　3.1 クラオイエッチングとは
    　3.2 クラオイエッチングの基礎原理
    　3.3 クラオイエッチングの応用例

    ４．クラオイエッチングによる高アスペクト比加工
    　4.1 クライオシリコン深掘エッチング
    　4.2 クライオチャネルホール深掘エッチング

    ５．クラオイエッチングの反応メカニズムと加工技術の最新動向
    　5.1 クラオイエッチングにおける気相反応
    　5.2 クラオイエッチングにおける表面反応
    　5.3 クライオ原子層エッチング

    　　□質疑応答□
     
    ※詳細プログラムは変更になる可能性がございます。

    セミナー講師

    名古屋大学　低温プラズマ科学研究センター　特任教授　蕭 世男 氏

    セミナー受講料

    49,500円 

    定価：本体45,000円＋税4,500円
    E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料
    1名分無料適用条件
    ※2名様ともE-Mail案内登録が必須です。
    　2名様以降の受講者は、申込み前にE-Mail案内登録をお済ませください。
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    ※請求書（クレジットカード決済の場合は領収書）は、代表者にS&T会員マイページにて発行いたします（PDF）。
    ※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です。
    　(申込みフォームの通信欄に「請求書１名ごと発行」と記入ください。)
    ※他の割引は併用できません。

    2名で49,500円 (2名ともE-mail案内登録必須​／1名あたり定価半額の24,750円)

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    1名申込みの場合：受講料 39,600円(E-Mail案内登録価格 37,840円)
    　定価：本体36,000円＋税3,600円
    　E-Mail案内登録価格：本体34,400円＋税3,440円
    ※１名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。
    ※他の割引は併用できません。

    主催者

    開催場所

    全国

    受講について

    特典
    ライブ配信受講に加えて、見逃し配信でも以下期間中に視聴できます
    【見逃し配信の視聴期間】2026年9月24日(木)～9月30日(水)まで
    ※このセミナーは見逃し配信付です。セミナー終了後も繰り返しの視聴学習が可能です。
    ※ライブ配信を欠席し見逃し配信の視聴のみの受講も可能です。
    ※見逃し配信は原則として編集は行いません。
    ※視聴準備が整い次第、担当から視聴開始のご連絡をいたします。

    配布資料
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    開催日時


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