レジスト材料とリソグラフィ技術の最適化とトラブル解決策

受講対象・レベル

【１】レジスト材料の研究開発、製造、品質管理、販売
【２】半導体、ディスプレイ、MEMS、センサーなどのデバイス開発、製造、販売
上記に従事されている方々（リーダークラスの方も歓迎です）

習得できる知識

・レジストを製造するための基礎知識、設計概念と具体的方法
・レジストの品質管理手法
・レジストを使用する際の留意事項、トラブル対応能力
・リソグラフィープロセスの最適化方法
・リソグラフィー使用現場におけるトラブル対応能力
・素材メーカー、レジストメーカーとしての顧客対応能力

セミナープログラム

１． リソグラフィの基礎
　（１）リソグラフィーとは
　（２）露光システムとリソグラフィー装置の変遷
　（３）解像度向上技術とそれに必要な材料

２．レジスト材料とその高性能化
　（１）パターンニング用レジスト材料（総論）
　（２）G線、i線用レジスト
　（３）KrF用レジスト
　（４）ArFおよびArF液浸用レジスト
　（５）EUV用レジスト
　（６）後工程（実装材料）用のレジスト

３．レジスト製造技術と品質管理
　（１）レジスト製造技術
　（２）レジストの性能安定化技術
　（３）品質管理－その項目と管理方法

４．レジスト材料の評価技術
　（１）性能評価
　　　素材（樹脂、感光剤、添加物）やレジストの簡便かつ安価な評価方法をご紹介します。
　（２）品質評価
　　　顧客からの要求項目、スペック項目についての評価方法を述べます。
　（３）シミュレーション技術

５．レジスト製造、および使用現場におけるトラブル対応
　（１）素材（樹脂、感光剤、添加物）製造時のトラブル
　（２）レジスト製造時のトラブル
　（３）レジスト販売時のトラブル
　（４）レジスト使用時のトラブル
　上記のそれぞれについて、①原因、②評価方法、③解決策を、材料面およびリソグラフィープロセス面から述べ、あわせて顧客対応策について詳述します。

６．20nm以下のリソグラフィー技術
　（１）ダブルパターンニング技術
　（２）DSA技術とその材料
　（３）ナノインプリント技術
　（４）今後のリソグラフィー技術

【質疑応答】

キーワード：
レジスト,リソグラフィー,露光,トラブル,不良,問題,課題,対策,研修,講座,セミナー

セミナー講師

（株）光機能材料研究所　代表取締役　工学博士　花畑 誠　氏

【略歴】
　1976年3月 大阪大学 大学院 工学研究科 応用化学専攻 修了
　1976年4月 住友化学工業（株）【現：住友化学（株）】入社。フォトレジストの開発に従事
　1997年8月 （株）関西新技術研究所【現：（株）KRI】 入社。主として電子材料に関する受託研究に従事
　2006年4月 日産化学工業（株）【現：日産化学（株）】入社。電子材料の企画開発、研究に従事
　2014年4月 富山県立大学 工学部 客員教授、神奈川大学工学研究科 客員教授
　2018年10月 （株）光機能材料研究所 代表取締役

セミナー受講料

55,000円（税込、資料付）
■ 非会員の方は1名につき55,000円（税込み）です。
会員の方もしくは新規会員登録していただいた方の受講料は以下の通りです。
　★1名で申込の場合、49,500円（税込）に割引になります。
　★2名以上同時申込の場合、1名につき半額の27,500円（税込）に割引になります。
　　※参加者全員の会員登録が必要です。登録料や年会費などは一切かかりません。


※ 会員登録とは
　 ご登録いただきますと、セミナーや書籍などの商品をご案内させていただきます。
　 すべて無料で年会費・更新料・登録費は一切かかりません。
　 メールまたは郵送でのご案内となります。
　 郵送での案内をご希望の方は、備考欄に【郵送案内希望】とご記入ください。

主催者

開催場所

受講について

Zoomを使ったWEB配信セミナー受講の手順

1. Zoomを使用されたことがない方は、こちらからミーティング用Zoomクライアントをダウンロードしてください。ダウンロードできない方はブラウザ版でも受講可能です。
2. セミナー前日までに必ず動作確認をお願いします。
3. 開催日直前にWEBセミナーへの招待メールをお送りいたします。当日のセミナー開始10分前までに招待メールに記載されている視聴用URLよりWEB配信セミナーにご参加ください。

• セミナー資料は開催前日までにお送りいたします。
• 無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。