表面・界面の考え方と分析の基礎と実践応用

表面・界面の考え方、ノウハウ、テクニック、アプローチ、方法まで
余すところなく教えます！

★ 「悪魔がつくった」なんて言われるほど複雑・難解な"表面・界面"を適切に分析・評価するのは一筋縄ではいかないもの。表面・界面に対する考え方や分析手法の紹介から実践的なテクニック・ノウハウ、アプローチ法まで、事例を交えて解説します。

講師

ジャパン・リサーチ・ラボ　代表　博士（工学） 奥村 治樹 氏

【略歴】
　大手化学メーカー、電器メーカーでの研究開発及びにマネジメント業務に携わる。現在は、ベンチャーから上場企業まで様々な業種の顧問や技術コンサルタントとして、研究開発、製造における課題解決、戦略策定から人事研修などの人材育成などを行っている（詳細はHP参照）。また、学会等での招待講演や国プロにおけるキャリア形成プログラムの講師なども行っている。

【その他 所属・役職】
・大阪産業大学 情報工学科 非常勤講師
・大阪産業創造館　相談員
・滋賀県産業支援プラザ　相談員
・市立教育研究所運営委員
・滋賀県社会教育委員

受講料

48,600円 ( S&T会員受講料 46,170円 )
(まだS&T会員未登録の方は、申込みフォームの通信欄に「会員登録情報希望」と記入してください。詳しい情報を送付します。ご登録いただくと、今回から会員受講料が適用可能です。)

【2名同時申込みで1名分無料キャンペーン（１名あたり定価半額の 24,300円）】
※2名様ともS&T会員登録をしていただいた場合に限ります。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※3名様以上のお申込みの場合、上記１名あたりの金額で受講できます。
※受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
※請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。(申込みフォームの通信欄に「請求書１名ごと発行」と記入ください。)
※他の割引は併用できません。

主催者より

　講師と類似した研修サービス等の提供するコンサルタント、経営コンサルティング会社所属の方は受講をお断りすることがございます。また、所属を記載されないでお申し込みされた場合、所属を確認させて頂くことがございます。

得られる知識

・表面分析の基礎
・表面分析の考え方と活用法
・各種表面分析手法の使い方
・表面、界面の可視化法
・研究開発、問題解決へのフィードバック

対象

・研究開発部門、分析部門、製造部門、品質保証部門など技術部門全般
・若手から中堅を中心とした担当者
・部署マネジメント、部下を教育する管理者、マネージャー

趣旨

　表面、界面はあらゆる技術や製品の基盤となるものであり、現在扱われる材料やプロセス、技術、商品で表面や界面が関与していないものは無いと言っても過言ではない。これは言い方を変えると、現代は表面、界面に支配されているということになる。これほど重要なものであることから、分析手法一つにしても多種多様なものが開発され、利用されている。しかし、一方で表面や、特に界面はまだ未解明な部分も多く、その本当の姿を明らかにして利用することは容易ではない。
　本講では、表面、界面の基礎から、分析評価を中心にして、その姿を明らかにして利用するためのアプローチについて、技術的テクニック、コツやノウハウから、考え方、アプローチに方法まで応用アプリケーションの事例を交えて解説する。

プログラム

１．表面に支配される現代社会
　1.1 膜・界面、そして、現代技術を支配する表面
　1.2 表面・界面で発生する代表的事象

２．表面とは
　2.1 表面とは？
　2.2 表面の要素
　2.3 表面における現象

３．界面とは
　3.1 界面における現象
　3.2 多層膜による界面形成
　3.3 薄膜化による界面の変化

４．表面・界面を支配するもの
　4.1 界面形成
　4.2 界面を形成する力
　4.3 表面・界面形成を支配するもの
　4.4 界面形成因子と評価法
　4.5 表面を支配するには

５．表面分析成功のキーポイント
　5.1 表面分析の心構え
　5.2 サンプルの取り扱い

６．代表的表面分析手法
　6.1 表面分析の分類
　　6.1.1 表面分析に用いる主な手法と選び方
　　6.1.2 表面・微小部の代表的分析手法
　6.2 X線光電子分光法（XPS）
　　6.2.1 元素同定
　　6.2.2 化学状態の同定
　　6.2.3 角度変化測定による深さ方向分析
　　6.2.4 ハイブリッド分析
　　6.2.5 チャージアップの工夫と注意点
　　6.2.6 イオンエッチングの工夫と注意点
　　6.2.7 界面で正体不明のピークシフト
　　6.2.8 ちょっと便利なサイトやソフト
　6.3 オージェ電子分光法
　　6.3.1 複数成分の分布分析
　　6.3.2 界面領域の分析
　　6.3.3 XPSとの違い
　6.4 EPMA
　　6.4.1 元素分布測定
　　6.4.2 空間分解能の考え方
　6.5 フーリエ変換赤外分光法
　　6.5.1 測定法
　　6.5.2 周辺環境の影響
　　6.5.3 主な吸収帯
　　6.5.4 指紋領域の利用
　　6.5.5 カルボニル基の判別
　　6.5.6 系統分析
　　6.5.7 帰属の考え方
　　6.5.8 全反射法（ATR法）
　　6.5.9 ATRのコツ、ポイント、注意点
　　6.5.10 in-situ分析
　6.6 TOF-SIMS
　　6.6.1 化学構造が分かる原理
　　6.6.2 化学構造解析
　6.7 形態を知る
　　6.7.1 形態観察と物性分析法
　　6.7.2 ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）
　6.8 走査型プローブ顕微鏡（SPM）

７．界面分析
　7.1 界面評価の重要性と課題
　7.2 界面の分類
　7.3 界面における課題
　7.4 従来法と問題点
　7.5 精密斜め切削法

８．解析の実例
　8.1 ＵＶ照射による化学構造の評価
　8.2 化学修飾法を用いた表面官能基イメージング
　8.3 ポリイミドの表面処理層の深さ方向分析
　8.4 ＰＩ／Ｃｕ／Ｓｉ界面の解析
　8.5 ＵＶ表面処理による構造変化の深さ方向解析

９．仮説思考による研究開発と問題解決

１０．まとめ

１１．質疑応答