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~洗浄メカニズムと歩留低下技術・汚染制御技術・次世代の洗浄技術~
半導体の微細化に伴い、より重要となってくる洗浄技術
次世代半導体に対応するための汚染制御・洗浄乾燥技術とは・・・
洗浄技術の基礎から歩留改善のための技術について経験豊富な講師がわかりやすく解説します。
セミナー趣旨
受講対象・レベル
研究開発および製造業務にたずさわっている中堅、若手や新人の方対象です。
必要な予備知識
※特に予備知識は必要ありません。基礎から解説いたします。
習得できる知識
・半導体製造における汚染制御と歩留改善に洗浄技術が重要であることが理解できる
・最新の洗浄液技術を習得できる
セミナープログラム
1-0 クリーン化の重要性
1-1 金属汚染(Fe, Cu等)およびナノパーティクル
1-2 分子汚染(NH3, アミン, 有機物, 酸性成分)
1-3 各種汚染の分析解析方法及びモニタリング技術
2.洗浄技術
2-1 RCA洗浄
2-2 各種洗浄液と洗浄メカニズム ~薬液系洗浄 vs. 純水系洗浄~
2-3 洗浄プロセスの動向
2-4 最先端の洗浄技術とその問題点
3.その他の汚染制御技術
3-1 工場設計
3-2 ウェーハ保管、移送方法
4.次世代の汚染制御の問題点と今後の課題
4-1 新洗浄乾燥技術(SCCO2洗浄乾燥, PK剤乾燥)
4-2 次世代の洗浄、汚染制御の問題点と今後の課題
□ 質疑応答 □
セミナー講師
【専門】半導体洗浄、クリーン化、微量分析技術、歩留改善
セミナー受講料
※お申込みと同時にS&T会員登録をさせていただきます(E-mail案内登録とは異なります)。
44,000円( E-mail案内登録価格41,800円 )
E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料
2名で 44,000円 (2名ともE-mail案内登録必須/1名あたり定価半額22,000円)
【1名分無料適用条件】
※2名様ともE-mail案内登録が必須です。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※3名様以上のお申込みの場合、1名あたり定価半額で追加受講できます。
※請求書(PDFデータ)は、代表者にE-mailで送信いたします。
※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です。
(申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」と記入ください。)
※他の割引は併用できません。
※テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【Live配信/WEBセミナー受講限定】
1名申込みの場合:35,200円 ( E-Mail案内登録価格 33,440円 )
※1名様でLive配信/WEBセミナーを受講する場合、上記特別価格になります。
※他の割引は併用できません。
受講について
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