フォトレジスト材料の基礎と開発・設計指針 ~合成・評価法からEUV用フォトレジスト材料開発まで~

本セミナーでは、EUV用フォトレジスト材料に関し、従来のフォトレジスト材料の歴史を 簡単に振り返りながら比較し、特有の課題やその解決法の一端について解説します。

セミナー趣旨

  2019年、30年にもおよんだ長い検討期間を経て、ついにEUVリソグラフィが量産適用された。しかしながら、適用された各技術は、まだ序章に過ぎず多くの課題を抱えている。言い換えると、EUVリソグラフィは、まだ大きな発展の余地を残しており、これら課題を理解すること、解決することが非常に重要であると考えられている。EUV用フォトレジスト材料においても例外ではなく、多くの課題を山積するが、その背景には従来のフォトレジスト材料に比し、EUVリソグラフィ特有の難度の高い課題が存在することによる。
  本セミナーでは、EUV用フォトレジスト材料に関し、従来のフォトレジスト材料の歴史を簡単に振り返りながら比較し、特有の課題やその解決法の一端について解説する。

受講対象・レベル

本テーマにご関心のある化学材料メーカー(特に原材料メーカー)や周辺部材メーカーの方々。
特に、若手研究者やマーケティング担当従事者など。

習得できる知識

フォトレジストの歴史、EUVレジストの課題、EUVレジストの開発状況

セミナープログラム

1.私たちの世の中を取り巻く環境の変化
  1)アナログからデジタルへ
  2)電子デバイスの高速化、大容量化、省電力化
  3)各種半導体デバイスの開発動向
2.リソグラフィ微細化の歴史
  1)リソグラフィとは?
  2)フォトレジストって何?どこに使われている?
  3)なぜフォトレジストが必要か?
  4)微細化を牽引するムーアの法則とは?
  5)ムーアの法則を実現する露光波長短波化によるリソグラフィの微細化
  6)簡単ではなかった露光波長短波化の歴史とパラダイムシフト
  7)フォトレジストのケミストリー
  8)フォトレジストに用いられる材料の要求性能、不純物の管理
  9)ノボラック/NQDレジストと化学増幅型レジスト
 10)化学増幅型レジストの誕生により実現したKrFレジスト
 11)最初の化学増幅型レジストゆえの多彩なKrFレジストのプラットフォーム
 12)昨今のKrFレジスト、アプリケーションの拡大(厚膜レジストの誕生)
 13)ArFレジスト、露光波長の短波化により何が難しかったのか?
 14)EUVリソグラフィ実用化困難時代に生まれたArF液浸リソグラフィ
 15)ArF液浸リソグラフィ延命の切り札、Negative tone imaging(NTI)技術の発明
 16)ArF液浸NTIリソグラフィ適用により実現したマルチパターニングによる微細化
3.EUVリソグラフィ
  1)EUVリソグラフィの歴史
  2)ムーアの法則は、いまだ健在か?さらなる微細化は必要なのか?
  3)EUVリソグラフィは、なぜ必要なのか?
  4)EUV実現のための3つの重要な要素とその重要度の推移
  5)国家プロジェクトの必要性
  6)国家プロジェクトであるEIDEC(EUVL基盤開発センター)における基礎検討
  7)基礎検討① アウトガス課題の検討
  8)基礎検討② EUV露光機の開発
  9)基礎検討③ メタルレジストの要素検討
 10)メタルレジストの現在の状況
 11)EUVレジスト特有の課題、ストカスティック因子とは何か
 12)リソグラフィ工程におけるストカスティック因子の分析
    フォトンストカスティックとケミカルストカスティック
 13)ストカスティック因子を解決する手段の紹介
    フォトンストカスティック解消のための施策 EUV高吸収系
    ケミカルストカスティック(膜中分布)解消のためのコンセプト
    ケミカルストカスティック(溶解不均一)解消のためのコンセプト

セミナー講師

 藤森 亨 先生   富士フイルム株式会社 エレクトロニクスマテリアルズ研究所 シニアエキスパート 

【略歴】
埼玉大学にて学位・修士修了後、富士フイルム(株)に入社。
有機合成化学研究所にて10年間新規化合物合成(主にフォトレジスト用材料)に従事後、
エレクトロニクスマテリアルズ研究所に異動。
イメージセンサー用カラーレジスト開発に6年間従事後、半導体用フォトレジスト開発に従事、現在に至る。
2014年から2016年まで国家プロジェクトであるEIDEC(EUVL基盤開発センター)にて、
EUVリソグラフィの基礎研究に従事。
【専門】
有機合成化学(低分子~高分子、設計から合成、機能物性測定まで)
リソグラフィ用フォトレジストの設計、開発、評価(KrF、ArF、 EUV、 EB)
デバイス技術動向や市場動向などのマーケティング

セミナー受講料

【オンラインセミナー(見逃し視聴なし)】:1名47,300円(税込(消費税10%)、資料付)
*1社2名以上同時申込の場合、1名につき36,300円

【オンラインセミナー(見逃し視聴あり)】:1名52,800円(税込(消費税10%)、資料付)
*1社2名以上同時申込の場合、1名につき41,800円

*学校法人割引;学生、教員のご参加は受講料50%割引。

受講について

※本講座は、お手許のPCやタブレット等で受講できるオンラインセミナーです。

配布資料・講師への質問等について

  • 配布資料はPDF等のデータで送付予定です。受取方法はメールでご案内致します。
    (開催1週前~前日までには送付致します)。

    ※準備の都合上、開催1営業日前の12:00までにお申し込みをお願い致します。
    (土、日、祝日は営業日としてカウント致しません。)
  • 当日、可能な範囲で質疑応答も対応致します。
    (全ての質問にお答えできない可能性もございますので、予めご容赦ください。)
  • 本講座で使用する資料や配信動画は著作物であり、
    無断での録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売等を禁止致します。

下記ご確認の上、お申込み下さい

  • PCもしくはタブレット・スマートフォンとネットワーク環境をご準備下さい。
  • ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております(20Mbbs以上の回線をご用意下さい)。
    各ご利用ツール別の動作確認の上、お申し込み下さい。
  • 開催が近くなりましたら、当日の流れ及び視聴用のURL等をメールにてご連絡致します。

Zoomを使用したオンラインセミナーとなります

  • ご受講にあたり、環境の確認をお願いしております。
    お手数ですが下記公式サイトからZoomが問題なく使えるかどうか、ご確認下さい。
    確認はこちら
    ※Skype/Teams/LINEなど別のミーティングアプリが起動していると、Zoomでカメラ・マイクが使えない事があります。お手数ですがこれらのツールはいったん閉じてお試し下さい。
  • Zoomアプリのインストール、Zoomへのサインアップをせずブラウザからの参加も可能です。
    ※一部のブラウザは音声(音声参加ができない)が聞こえない場合があります。
     必ずテストサイトからチェック下さい。
     対応ブラウザーについて(公式) ;
     「コンピューターのオーディオに参加」に対応してないものは音声が聞こえません。

申込み時に(見逃し視聴有り)を選択された方は、見逃し視聴が可能です

  • 開催5営業日以内に録画動画の配信を行います(一部、編集加工します)。
  • 視聴可能期間は配信開始から1週間です。
    セミナーを復習したい方、当日の受講が難しい方、期間内であれば動画を何度も視聴できます。
    尚、閲覧用のURLはメールにてご連絡致します。
    ※万一、見逃し視聴の提供ができなくなった場合、
    (見逃し視聴有り)の方の受講料は(見逃し視聴無し)の受講料に準じますので、ご了承下さい。
    こちらから問題なく視聴できるかご確認下さい(テスト視聴動画へ)パスワード「123456」

※セミナーに申し込むにはものづくりドットコム会員登録が必要です

開催日時


10:30

受講料

47,300円(税込)/人

※本文中に提示された主催者の割引は申込後に適用されます

※銀行振込、コンビニ払い

開催場所

全国

主催者

キーワード

高分子・樹脂材料   半導体技術   電子デバイス・部品

※セミナーに申し込むにはものづくりドットコム会員登録が必要です

開催日時


10:30

受講料

47,300円(税込)/人

※本文中に提示された主催者の割引は申込後に適用されます

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全国

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キーワード

高分子・樹脂材料   半導体技術   電子デバイス・部品

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