反射防止・防眩フィルムのギラツキ低減、視認性向上技術

★ ギラツキ(スパークリング)のメカニズムから 表面凹凸の設計、定量評価まで詳しく解説!


講師


1.大手ディスプレイ関連・ケミカルメーカー 研究者

2.(株)ダイセル 研究開発本部 コーポレート研究センター
  主任研究員 博士(工学) 林 正樹 氏

3.ティーエーケミカル(株) 顧問 工学博士 谷口 孝 氏


受講料


1名につき55,000円(消費税抜き、昼食・資料付き)
〔1社2名以上同時申込の場合のみ1名につき50,000円(税抜)〕


プログラム


【10:00〜12:30】
1.ディスプレイ視認性向上のための生体模倣技術
大手ディスプレイ関連・ケミカルメーカー 研究者

1.表面化学の基礎
 1.1 界面現象
 1.2 表面エネルギーの解析
  1) 表面の物理化学
  2) Zisman、Fowksの手法
  3) 具体的な表面エネルギーの算出と各種手法の比較
 1.3 表面凹凸の影響
  1) Wenzelの手法 2) Cassie-Baxterの手法

2.表面分析

3.バイオミメティックスのディスプレイへの応用
 3.1 生物表面の機能的なwettability
 3.2 超撥水と超撥油による防汚
 3.3 超親水性表面による防曇
 3.4 モスアイ表面の低反射

4.ディスプレイ視認性向上技術
 4.1 ARフィルム
  1) ARフィルムの構造と製造装置
  2) 光学特性とARフィルムへの要求特性
  3) AR表面の防汚化技術
  4) 防汚材料
  5) AR表面の防汚膜
  6) 防汚メカニズム
  7) 指紋付着への影響因子
 4.2 屈折率マッチング材料(SVR)
 4.3 ITOパターンの非視認化
 4.4 蛍光体シート

【質疑応答】



【13:30〜15:00】
2.低ギラツキ防眩フィルムの特徴と適用事例
(株)ダイセル 研究開発本部 コーポレート研究センター 主任研究員 博士(工学) 林 正樹 氏

1.防眩フィルムとギラツキ
 1.1 防眩フィルムの特徴
 1.2 ギラツキとは     
 1.3 ギラツキ発生のメカニズム

2.表示デバイスの高精細化
 2.1 表示体の画面解像度の変遷
 2.2 防眩フィルムと液晶/有機EL表示体

3.防眩フィルムの設計
 3.1 微細表面凹凸の設計と具体例・・・微粒子分散法
 3.2 微細表面凹凸の設計と具体例・・・相分離法
 3.3 ギラツキの抑制手法

4.ギラツキの定量化
 4.1 目視による官能評価
 4.2 装置による定量化
 4.3 ギラツキ評価と防眩フィルム設計への活用

5.防眩フィルムの高性能化と今後の展開

【質疑応答】



【15:15〜16:45】
3.ポリシロキサン系ハードコートの設計、屈性率制御と反射防止膜への応用
ティーエーケミカル(株) 顧問 工学博士 谷口 孝 氏

【習得できる知識】
 ハードコート材料設計技術・設計指針、およびハードコート膜の屈折率をはじめとする光学特性制御技術、更には反射防止膜形成に必要な複層膜化技術などに関す る有用な情報・知識が得られる。 
 
【講座趣旨】
 プラスチック表面加工の最重要課題であるハードコート材料について、ポリシロキ サン系を中心に、聴講者が理解しやすいように具体例を示して、考え方、アプロー チの仕方を概観する。更に、反射防止膜への応用において重要な特性である屈折率 の制御技術の概要についても述べる。

1.はじめに

2.ハードコート(HC)の基礎
 2.1 なぜHCが必要か
 2.2 表面硬度評価方法
 2.3 HC材料設計指針
 2.4 代表的プラスチック用HC材料

3.HC材料の基礎と応用
 3.1 HC材料開発の歴史
 3.2 ポリシロキサン(PS)系HC材料
 3.3 PS系HC材料の実用化例
 3.4 PS系HC材料の課題

4.HC材料の反射防止膜への応用
 4.1 反射防止の原理
 4.2 HC膜の高屈折率化技術
 4.3 HC膜の低屈折率化技術
 4.4 複層膜化による反射防止加工

5.今後の反射防止加工技術
 5.1 ワンコート反射防止膜
 5.2 高機能反射防止膜

6.まとめ
 
【質疑応答】


※セミナーに申し込むにはものづくりドットコム会員登録が必要です

開催日時


10:00

受講料

59,400円(税込)/人

※本文中に提示された主催者の割引は申込後に適用されます

※銀行振込、会場での支払い

開催場所

東京都

MAP

【品川区】技術情報協会セミナールーム

【JR・地下鉄】五反田駅 【東急】大崎広小路駅

主催者

キーワード

高分子・樹脂技術   光学技術

※セミナーに申し込むにはものづくりドットコム会員登録が必要です

開催日時


10:00

受講料

59,400円(税込)/人

※本文中に提示された主催者の割引は申込後に適用されます

※銀行振込、会場での支払い

開催場所

東京都

MAP

【品川区】技術情報協会セミナールーム

【JR・地下鉄】五反田駅 【東急】大崎広小路駅

主催者

キーワード

高分子・樹脂技術   光学技術

関連記事

もっと見る