１日速習！よくわかる、半導体洗浄の基礎と要点、困ったときの対策

セミナー趣旨

習得できる知識

セミナープログラム

１．洗う理由：汚れは何？いつ、どこからなぜやって来る？

２．一般の洗浄
　　（洗浄の４要素:温度、時間、化学、力学）

３．半導体の洗浄に特有のこと
　　（何故、そこまでして洗うのか）

４．先端技術情報
　　（半導体洗浄を取扱っている国際学会・国内学会）

５．半導体洗浄の基礎現象
　　（薬液と流れの効果）
　5.1 表面の現象とプロセス
　　　（付着・脱離・引き剥がす・乾かす）
　5.2 流れ、熱、拡散、反応
　　　（洗う＝汚れを動かす操作）
　5.3 装置内流れの種類
　　　（完全混合、押出流れ、境界層）
　5.4 流れの可視化観察
　　　（「流れ」と「拡散」の感覚を動画で）

６．洗浄機内の流れと反応
　6.1 枚葉式洗浄機
　　6.1.1 水の流れ（観察動画と計算例）
　　6.1.2 化学反応の例（表面反応もここまで分かる）
　6.2 バッチ式洗浄機
　　6.2.1 水の流れ(観察動画と計算例)
　　6.2.2 水流を最適化（入口と出口で変わる）
　6.3 超音波の働き、水と気泡の動き（観察動画）

７．まとめ：困った時の視点と対策（境界層を壊そう！）

□質疑応答□

セミナー講師

横浜国立大学 名誉教授　反応装置工学ラボ・代表　羽深 等　氏

セミナー受講料

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