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~膜質制御法・膜応力低減法・密着力向上法について詳解!~
セミナー趣旨
本講演では、スパッタや真空蒸着によって薄膜を作成しようとする場合に頻繁に問題となる膜質制御や剥離対策にテーマに絞り、その基本となる考え方から現象の詳細、評価方法と材料設計への活かし方、対策に至るまでを具体的な成膜や特性改善事例をまじえながらわかりやすく解説します。主に無機・金属薄膜を取り上げますが、最新の話題を含めてできるだけ幅広い成膜技術を紹介します。特に、現在成膜に関する問題を抱えられている方、これから成膜技術をより深く理解して製品開発に取り組まれようとされる方、成膜品の品質検査や管理に関わる方にご参考になるような話題を提供したいと思います。
習得できる知識
成膜と薄膜形成の基礎知識
膜質制御・剥離対策に必要な基礎知識
膜応力や密着力の評価方法と管理の基礎知識
セミナープログラム
1.成膜プロセスと薄膜形成現象を理解したい
1-1.成膜方法により生じる膜質変化の具体例
1-2.スパッタと真空蒸着の違い
1-3.成膜装置と真空をあつかうための必要最小限の基礎知識
1-4.薄膜の初期構造や微視的組織はどのように形成されるのか
1-5.成膜パラメータの制御やプロセスの最適化で注意したいポイント
2.膜の均一性・均質性を制御したい
2-1.膜質を効果的に制御する具体例
2-2.プラズマとは
2-3.プラズマ状態を知ることによる効果
2-4.プラズマの状態を知る方法
・プラズマ特性と電子エネルギー分布関数の評価
・a-C膜にみるプラズマパラメータと微細構造との関係
・膜質の不均一性:プラズマの影響
・イオン・高エネルギー照射現象と膜質の改善
・イオン照射と残留応力の関係:Davisモデル
・段差被覆性の改善
3.膜応力を低減したい
3-1.膜応力が原因となった不具合とその対策の具体例
3-2.応力発生メカニズムと応力制御のための基礎知識
3-3.多層膜やパターニングされた薄膜の応力で注意する点
3-4.膜応力低減の各種手法とその考え方
3-5.膜応力の評価手法のポイント:X線回折法・ラマン分光法・基板曲率法
4.密着力を良くしたい
4-1.薄膜の密着力問題に対処する具体例
4-2.基板と薄膜の界面をしっかり観察する
4-3.剥離を起こしている材料的要因を簡単に絞り込む方法
4-4.密着性改善の考え方
4-5.密着性改善のための具体的な対策
4-6.スクラッチ試験による密着力測定と材料設計への活かし方
5.まとめ
スケジュール
昼食の休憩時間12:00~12:45を予定しております。
※進行によって、多少前後する可能性がございます。
※質問は随時チャット形式で受け付けます。また音声でも可能です。
スパッタリング,蒸着,薄膜,応力,密着力,均一,均質,評価,セミナー
セミナー講師
ペルノックス(株)【荒川化学工業(株)】 開発統括部
開発センター長 工学博士 岩村 栄治 氏
セミナー受講料
55,000円(税込、資料付)
■ セミナー主催者からの会員登録をしていただいた場合、1名で申込の場合46,200円、
2名同時申込の場合計55,000円(2人目無料:1名あたり27,500円)で受講できます。
(セミナーのお申し込みと同時に会員登録をさせていただきますので、
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タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
※セミナーに申し込むにはものづくりドットコム会員登録が必要です
開催日時
10:00 ~
受講料
55,000円(税込)/人
※本文中に提示された主催者の割引は申込後に適用されます
※銀行振込
開催場所
全国
主催者
キーワード
薄膜、表面、界面技術 プラズマ技術 半導体技術
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