初心者向けセミナーです 【中止】ミストCVD技術の開発と今後の可能性

ミスト流を利用した注目の機能膜作製手法の現在地と展望
概要から作製した膜やデバイスの特性、
技術動向、今後の展望まで、ミストCVD技術を解説！


非真空プロセス、低イニシャルコスト・運用コスト、大面積の膜形成が可能などと言った特徴を持つ薄膜形成技術ミスト化学気相成長法

セミナー趣旨

　大気圧下で大面積に亘り高品質な機能膜を形成するための技術として開発してきたミストCVDに関して、経緯、歴史、作製膜の特性、デバイス、ミストCVDに関する物理、次世代へ向けた開発の方向性等、詳しく説明します。

習得できる知識

・機能膜作製プロセス
・大気圧・非真空プロセス
・溶液プロセス
・ミストCVD
・電子デバイス(ディスプレイ・センサー･スイッチング素子･発光素子･量子素子)
・コーティング(不動態膜･透明導電膜)
・組成制御
・反応工学

セミナープログラム

第1部　ミストCVD技術の開発初期

１．緒言
　1.1 自己紹介
　1.2 高知工科大学について
　1.3 高知工科大学 総合研究所について 
２．機能膜作製技術の現状とこれからの開発ポイント
　2.1 どういった物に利用されているのか
　2.2 それらを作製するシステムの大きさやコストについて
　2.3 省エネプロセスの必要性とそれが達成されない理由
　2.4 大気圧下で対象とする機能膜を形成する為のポイント 
３．ミストを利用した機能膜形成技術「ミストCVD」の特徴
　3.1 ミスト法とは
　3.2 従来の成膜手法に対するミストCVD法の立場
　3.3 超音波噴霧を利用した機能膜形成技術の歴史 
４．原料供給手段に超音波噴霧を利用する利点
　4.1 各種液滴の発生法
　4.2 一般環境下で薄膜を形成するために適した液滴発生法とは
５．ミスト流を用いた機能膜作製システムの装置群
　5.1 ミスト流を用いた機能膜作製システム
　5.2 原料供給器
　5.3 成膜反応装置周囲の基本システム
６．ミストCVDの物理１
　6.1 均質膜を作製する為の３つの手段
　6.2 液滴のライデンフロスト状態
 

第2部　ミストCVD技術の応用と発展

７．ファインチャネル(FC)システムvsホットウォール(HW)システム
　7.1 解析構造・条件
　7.2 結果
８．ミストCVDで作製出来る機能膜
　8.1 これまでに形成できた薄膜種
　8.2 酸化亜鉛系(ZnO)
　8.3 酸化ガリウム系(Ga2O3)
　8.4 酸化アルミニウム(AlOx)
　8.5 酸化インジウムガリウム亜鉛(IGZO)
　8.6 有機膜
　8.7 層状硫化モリブデン(MoS2)
　8.8 その他
９．ミストCVDで作製したデバイス
　9.1 大気圧手法により形成された酸化物TFTの現状
　9.2 ミストCVDによるIGZO TFTの作製
　9.3 特性および最適化
　9.4 その他のデバイス(IGZO, Ga2O3, SnO2 MESFET, Organic SC等) 
１０．ミストCVDによる量子素子の作製とその特徴
　10.1 大気圧下で量子井戸が形成できる理由
　10.2 作製した量子井戸の特徴 
１１．ミストCVDの物理２
　11.1 ミスト同士は衝突しない
　11.2 複合反応の抑制
　11.3 組成制御技術 
１２．ミストCVDの物理３
　12.1 反応炉内でのミスト液滴の挙動
　12.3 ミスト流を利用した成膜プロセスにおける反応メカニズム 
１３．まとめ
　13.1 ミストCVDとこれからのミストCVD
　13.2 ミストCVDの他なる可能性
 
□ 質疑応答・名刺交換 □

セミナー講師

高知工科大学 システム工学群 教授　川原村 敏幸 氏
【学位】博士(工学)
【専門】化学工学・電子工学
【学会等】
CVD研究会 幹事
応用物理学会 プログラム委員
薄膜材料デバイス研究会 実行委員(助成金担当)

セミナー受講料

44,000円( S&T会員受講料41,800円 )
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詳しい情報を送付します。ご登録いただくと、今回から会員受講料が適用可能です。)
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2名で 44,000円 (2名ともS&T会員登録必須／１名あたり定価半額22,000円)

【1名分無料適用条件】
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※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※3名様以上のお申込みの場合、１名あたり定価半額で追加受講できます。
※受講券、請求書は、代表者に郵送いたします。
※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です。
　(申込みフォームの通信欄に「請求書１名ごと発行」と記入ください。)
※他の割引は併用できません。


※セミナーに申し込むにはものづくりドットコム会員登録が必要です

開催日時


12:30 ～

受講料

44,000円（税込）/人

※本文中に提示された主催者の割引は申込後に適用されます

※銀行振込 または、当日現金でのお支払い

開催場所

東京都

MAP

【品川区】きゅりあん

【JR・東急・りんかい線】大井町駅

主催者

キーワード

薄膜、表面、界面技術   化学反応・プロセス   半導体技術
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