【中止】ミストCVD法による酸化ガリウム（Ga2O3）のパワーデバイス応用～κ-酸化ガリウムのエピタキシャル成長とその物性評価～

セミナー趣旨

　近年、酸化ガリウムは大きなバンドギャップと低コストで形成できるという特徴からパワー半導体として大きな注目を浴びている。この酸化ガリウムは複数の結晶構造があることが知られており、その中でもκ型の酸化ガリウムは唯一分極を持つことから、窒化ガリウムと同様の原理の高周波パワートランジスタへの応用が期待されている。さらにこのκ型の酸化ガリウムは窒化ガリウムを大きく上回る物性を有しており、低コストかつ高性能のBeyond5G高周波パワートランジスタとして魅力的な材料である。また、この高周波パワートランジスタは他の酸化ガリウムで課題となっているp型が不要であり、その実用化へのハードルは小さい。
　本セミナーでは、このκ型の酸化ガリウムの結晶成長技術やデバイス応用に向けた検討、他機関の研究動向、またミストCVD法の原理などについて解説を行う。

受講対象・レベル

電機メーカー、半導体メーカー、自動車部品メーカー、化学メーカー、半導体商社、半導体装置メーカーなど、
パワー半導体や半導体製造装置に興味のある方。

習得できる知識

・酸化ガリウムのパワーデバイス応用の新しい展開
・ミストCVD法での酸化ガリウムの結晶成長技術
・ミストCVD法の原理
・酸化ガリウムの結晶成長の研究動向

セミナープログラム

1．酸化ガリウムの結晶多形
　1) 結晶多形の結晶構造
　2) 結晶多形による特徴
　3) 結晶多形による研究動向

2．ミストCVD法
　1) ミストCVD法の歴史（スプレー熱分解法からパイロゾル法、ミストCVD法まで）
　2) ミストCVD法の原理
　 a) ミストCVD法の装置
　 b) 気相反応
　 c) エピタキシャル成長を可能とする原理
　 d) 大面積化の検討
　3) ミストCVD法のその他の応用例
　 a) 透明導電膜など
　 b) 有機材料の成膜
　 c) 発光材料の成膜（ペロブスカイト材料）　

3．κ-酸化ガリウム
　1) κ-酸化ガリウムの物性
　 a) 強誘電体
　 b) 分極による二次元電子ガス密度
　 c) 強誘電性による新しいデバイス
　2) κ-酸化ガリウムの研究動向
　3) κ-酸化ガリウムのエピタキシャル成長
　 a) 形成方法によるエピタキシャル成長の違い
　 b) ミストCVD法でのエピタキシャル成長
　 c) 混晶化技術
　 d) 回転ドメイン
　 e) 回転ドメインへの対応
　4) κ-酸化ガリウムの高結晶性への取り組み　
　
4．ミストCVD法でのその他の結晶多形の成長
　1) β-酸化ガリウム
　 a) 高速成長技術
　 b) 混晶化技術
　2) α-酸化ガリウム
　 a) 高品質化
　 b) 混晶化技術
　 c) デバイス動作
　 d) p型化の検討例
　3) γ-酸化ガリウム
　 a) 混晶化によるさらなるワイドバンドギャップ化

5．まとめ

セミナー講師

 西中 浩之 先生   京都工芸繊維大学 電気電子工学系　准教授 博士（工学）　

セミナー受講料

1名41,800円(税込（消費税10％）、資料付)
＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき30,800円
＊学校法人割引；学生、教員のご参加は受講料50％割引。

受講について

※本講座は、お手許のPCやタブレット等で受講できるオンラインセミナーです。

配布資料・講師への質問等について

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• 当日、可能な範囲で質疑応答も対応致します。
  （全ての質問にお答えできない可能性もございますので、予めご容赦ください。）
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