初心者向けセミナーです ALD(原子層堆積)/ALE(原子層エッチング)技術の基礎と応用

最先端半導体デバイスの応用事例を用いて、
ALD技術の基礎を徹底的に解説します! 

セミナー修了後、受講者のみご覧いただける期間限定のアーカイブ配信を予定しております。

セミナー趣旨

AIや5GなどIoT技術の進歩を支えている半導体加工技術において、高機能な薄膜を形成することは、非常に重要である。薄膜形成技術については、古くからいろいろな手法が開発され、LSI、ディスプレイ、太陽電池などのエレクトロニクスの分野で広く活用されてきた。本セミナーでは、近年、特に注目を浴びているALD(原子層堆積)/ALE(原子層エッチング)技術について、その基礎と応用について概説する。特に、堆積の原理や材料について詳しく紹介する。また、LSI、薄膜トランジスタ、パワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介する。

受講対象・レベル

・半導体プロセス・デバイスの初学者
・ALD技術の導入を検討している技術者
・本テーマに興味のある方ならどなたでも受講可能。

習得できる知識

・ALD/ALE技術の基礎
・薄膜形成技術の基礎
・薄膜加工技術の基礎
・薄膜を使った半導体デバイスの動作原理
・薄膜デバイスの信頼性評価方法

セミナープログラム

1.薄膜形成技術
  1.1 薄膜作製/加工の基礎
  1.2 薄膜の評価手法
   1.2.1 電気的評価
   1.2.2 化学的分析手法
   1.2.3 光学的評価手法
2.ALD/ALE技術の基礎
  2.1 ALD技術の原理
  2.2 ALD薄膜の特長
  2.3 ALD技術の歴史
  2.4 ALD装置の仕組み
  2.5 ALD技術の材料
  2.6 ALE技術の基礎
  2.7 ALE技術の課題
3.ALD/ALE技術の応用
  3.1 パワーデバイスへの応用
  3.2 酸化物薄膜トランジスタへの応用
  3.3 MOS LSIへの応用
  3.4 太陽電池への応用
4.ALD/ALE技術の将来
  4.1 ALD/ALE技術の課題
  4.2 ALD/ALE技術の展望


パワーエレクトロニクス,ALD,Atomic Layer Deposition,原子層

セミナー講師

奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究領域 
情報機能素子科学研究室 教授 博士(工学)浦岡 行治 氏

セミナー受講料

55,000円(税込、資料付)
■ セミナー主催者からの会員登録をしていただいた場合、1名で申込の場合49,500円、
  2名同時申込の場合計55,000円(2人目無料:1名あたり27,500円)で受講できます。
(セミナーのお申し込みと同時に会員登録をさせていただきますので、
   今回の受講料から会員価格を適用いたします。)
※ 会員登録とは
  ご登録いただきますと、セミナーや書籍などの商品をご案内させていただきます。
  すべて無料で年会費・更新料・登録費は一切かかりません。
  メールまたは郵送でのご案内となります。
  郵送での案内をご希望の方は、備考欄に【郵送案内希望】とご記入ください。

受講について

Zoomを使ったWEB配信セミナー受講の手順

  1. Zoomを使用されたことがない方は、こちらからミーティング用Zoomクライアントをダウンロードしてください。ダウンロードできない方はブラウザ版でも受講可能です。
  2. セミナー前日までに必ず動作確認をお願いします。
  3. 開催日直前にWEBセミナーへの招待メールをお送りいたします。当日のセミナー開始10分前までに招待メールに記載されている視聴用URLよりWEB配信セミナーにご参加ください。
  • セミナー資料は開催前日までにPDFにてお送りいたします。
  • 無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。

※セミナーに申し込むにはものづくりドットコム会員登録が必要です

開催日時


10:30

受講料

55,000円(税込)/人

※本文中に提示された主催者の割引は申込後に適用されます

※銀行振込

開催場所

全国

主催者

キーワード

半導体技術   電子デバイス・部品   薄膜、表面、界面技術

※セミナーに申し込むにはものづくりドットコム会員登録が必要です

開催日時


10:30

受講料

55,000円(税込)/人

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全国

主催者

キーワード

半導体技術   電子デバイス・部品   薄膜、表面、界面技術

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