薄膜作製の基礎とトラブル対策～スパッタ、真空蒸着、CVD～

セミナー趣旨

　スパッタ法や真空蒸着法、化学気相成長（CVD）法は、先端材料研究をはじめ、電子デバイス、太陽電池、建材、さらには食品産業まで、さまざまな分野で使用されており、今や我々の生活と切っても切り離せない技術になっています。エレクトロニクスや真空技術の進歩により、現在では高性能な成膜装置が市販されていますが、これらを使いこなすには適切な知識が必要です。たとえば、新たな条件で成膜を行おうとすると、所望の薄膜を得るために条件出しを行わなければなりません。また、成膜プロセスでトラブルが発生すると、その対処に頭を悩ませることになります。そのようなときに必要になるのが、成膜技術に関する基本的かつ系統的な知識です。
　本講座では、真空蒸着法やスパッタ法、CVD法などを用いた成膜技術に携わる方々を対象に、これらの技術に関する基礎的かつ系統的な知識を習得し、実際の業務に生かして頂くことを目標とします。

受講対象・レベル

• 薄膜作製に関連する研究・開発・製造業務にたずさわって2～3年の若手技術者や新人の方
• 薄膜作製に関してある程度の経験はあるが、自分の知識を系統的に整理したい方

必要な予備知識

高等学校程度の物理、化学および数学の知識。できるだけ初学者の方でも理解できるよう、数式等の使用は最小限にして解説します

習得できる知識

• 成膜プロセス設計に必要な基礎知識
• 成膜プロセスで発生したトラブル対応に必要な基礎知識

セミナープログラム

1. 成膜技術に必要な真空・表面物性工学
   1. 気体分子運動論の基礎
   2. 真空工学の基礎
   3. 表面物性工学の基礎
2. 真空蒸着法
   1. 真空蒸着法の原理
   2. 真空蒸着法の種類と装置例
   3. 真空蒸着法で作製される薄膜の例
   4. 真空蒸着法を適用する際の留意事項
3. スパッタ法
   1. スパッタ法の原理
   2. スパッタ法の種類と装置例
   3. スパッタ法で作製される薄膜の例
   4. スパッタ法を適用する際の留意事項
4. 化学気相成長（CVD）法
   1. CVD法の原理
   2. CVD法の種類と装置例
   3. CVD法で作製されるさまざまな薄膜の例
   4. CVD法を適用する際の留意事項
5. 薄膜評価法
   1. 表面モルフォロジ、ステップカバレッジ
   2. 膜組成、膜構造
   3. 付着力、膜応力
   4. 電気的特性、光学的特性
6. 成膜プロセスで遭遇するトラブル例と対処法
   1. 膜質に関するトラブル
   2. 装置に関するトラブル

キーワード：薄膜,成膜,蒸着,スパッタ,CVD,評価,セミナー,研修,講習

セミナー講師

三重大学 大学院工学研究科 電気電子工学専攻 准教授 博士（工学）　佐藤 英樹 氏

セミナー受講料

49,500円（税込、資料付）
■ セミナー主催者からの会員登録をしていただいた場合、1名で申込の場合33,000円、
　 2名同時申込の場合計49,500円（2人目無料：1名あたり24,750円）で受講できます。
（セミナーのお申し込みと同時に会員登録をさせていただきますので、
　  今回の受講料から会員価格を適用いたします。）
※ 会員登録とは
　 ご登録いただきますと、セミナーや書籍などの商品をご案内させていただきます。
　 すべて無料で年会費・更新料・登録費は一切かかりません。
　 メールまたは郵送でのご案内となります。
　 郵送での案内をご希望の方は、備考欄に【郵送案内希望】とご記入ください。

受講について

Zoomを使ったWEB配信セミナー受講の手順

1. Zoomを使用されたことがない方は、こちらからミーティング用Zoomクライアントをダウンロードしてください。ダウンロードできない方はブラウザ版でも受講可能です。
2. セミナー前日までに必ず動作確認をお願いします。
3. 開催日直前にWEBセミナーへの招待メールをお送りいたします。当日のセミナー開始10分前までに招待メールに記載されている視聴用URLよりWEB配信セミナーにご参加ください。

• セミナー資料は開催前日までにお送りいたします。
  ご自宅への送付を希望の方は備考欄にご住所などをご記入ください。
  無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。