【中止】『異物不良ゼロを目指す』ためのクリーンルームと静電気対策講座 【名古屋開催】

セミナー趣旨

「客先からクリーンルームの異物管理について監査時に指摘されることが増えているが、従来のクリーンルーム管理からどのように対策していけばよいのか、正直よくわからない。」、「品質担当者が客先からの要求を聞いてくるが、現場が対応できずに困っている。」、このような声を聴くことが増えてきました。
　クリーンルーム管理と言えば、パーティクルカウンターを使用して浮遊微粒子数を測定するという方法で済まされていました。しかし、このような方法では異物不良ゼロを目指す最新のクリーン化管理では通用しません。また、客先から静電気対策による異物付着防止の管理や方法の指摘や質問が多くなっています。静電気対策は単にイオナイザー・除電ブロワーを付けるだけでは本当の管理とは言えません。
　そこで本講座では、異物不良ゼロを目指す上で必要となるクリーンルーム管理や静電気対策の手法について解説します。
　お使いのクリーンルームを評価するときにそのポイントはどこなのか?どういう判断基準で管理すればよいか?など、実験動画や事例を交えて初心者の方にもわかりやすく、ノウハウをお教えします。

習得できる知識

・クリーンルームの基礎知識と塵埃の本質
・クリーン化の具体的方法とその根拠
・静電気が塵埃を付着させるメカニズムとその防止対策
・正しい清掃方法、現場での塵埃の観察法
・無塵服からの発塵、現場での色々な発塵とその理由

セミナープログラム

１．異物不良はなぜ起こる？
　　1.1　クリーンルームとは？
　　1.2　クリーンルームの定義と規格。
　　1.3　異物はどこから来る？
　　1.4　クリーンルームは微小異物をどのように防いでいる？
　　1.5　微小異物の大きさ
　　1.6　微小異物の挙動を可視化
　　1.7　微小異物の厄介な点
　　1.8　微小異物の見える化
　　　　1.8.1　クリーンルームライト
　　　　1.8.2　気流可視化装置
　　　　1.8.3　数値管理
　　　　1.8.4　情報の共有

２．除塵とクリーンルーム清掃
　　2.1　付着のメカニズム・除塵のメカニズム
　　　　2.1.1　エア除塵
　　　　2.1.2　ワイパー（布による拭き上げ）
　　　　2.1.3　粘着ローラー
　　2.2　クリーンルーム清掃
　　　　2.2.1　クリーンルーム清掃の原則
　　　　2.2.2　クリーンルーム清掃ツールの種類と特徴
　　　　2.2.3　いつ清掃を行うか？
　　　　2.2.4　床の清掃
　　　　2.2.5　作業台の清掃
　　　　2.2.6　装置内の清掃
　　　　2.2.7　装置と局所クリーン化
　　　　2.2.8　治具の清掃
　　　　2.2.9　コンテナ、トレイの清掃
　　　　2.2.10　清掃しやすいクリーンルーム／しにくいクリーンルーム
　　　　2.2.11　清掃用具のメンテナンス
　　　　2.2.12　クリーンルーム清掃の評価
　　　　2.2.13　ここまでが、クリーンルーム清掃

３．持ち込み異物の軽減
　　3.1　クリーンウエアの管理
　　　　3.1.1　クリーンクリーニング
　　　　3.1.2　タンブリング試験
　　3.2　前室の管理
　　　　3.2.1　前室での交差汚染
　　　　3.2.2　前室清掃のポイント
　　3.3　エアシャワー
　　　　3.2.1　正しいエアシャワーの運用方法
　　　　3.3.2　エアシャワーの除塵率
　　　　3.3.3　エアシャワーと粘着ローラー
　　　　3.3.4　エアシャワーの静電気対策
　　　　3.3.5　インテリジェントエアシャワー
　　3.4　クリーンルームワイパーを考える
　　　　3.4.1　不織布ワイパーからの発塵
　　　　3.4.2　ワイパーの運用方法

４．製品への異物の付着防止
　　4.1　静電気による異物の付着とは？
　　　　4.1.1　クーロンの法則から対策を読み解く
　　　　4.1.2　静電気付着対策の基本と根本原理
　　　　4.1.3　静電気対策の対策実施例
　　　　4.1.4　静電気対策、こんな時はどうするのか？
　　4.2　クリーンルーム気流と付着
　　　　4.2.1　気流による異物付着の例
　　　　4.2.2　気流改善提案
　　4.3　クリーン化管理のガイドライン
　　　　4.3.1　ガイドラインの設定と解説
　　　　4.3.2　どのような管理が効果的か
　　　　4.3.3　ガイドラインでの具体的実施事項

５．作業員教育
　　5.1　クリーン化推進のために
　　5.2　クリーン化の6S
　　5.3　クリーン化推進委員会

セミナー講師

クリーンサイエンスジャパン　代表　園田 信夫 氏
【専門】
クリーン化工学
応用物理
静電気
【略歴】
1973年 三菱電機 株式会社 福岡製作所入社後、塗装・めっきの研究に従事。
1989年 分析技術センター立ち上げ後、半導体製造プロセスでの材料・プロセスの評価分析に従事。
この間、分析センター長、品質技術部長歴任
1998年 九州工業大学情報工学部にて「水素プラズマスパッタリングによるSiC薄膜形成」により学位取得 (情報工学博士)
2000年 ULSI開発センターにてクリーン化技術グループ立ち上げ先端クリーン化技術開発に従事
2002年 三菱電機 株式会社 パワーデバイス製作所品質保証部にて、アセンブリのクリーン化、静電気対策に従事
2009年 株式会社 オジックテクノロジーズ、取締役技術本部長

セミナー受講料

55,000円（税込、昼食・資料付）
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　 2名同時申込の場合計55,000円（2人目無料：1名あたり27,500円）で受講できます。
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