これからのディスプレイ製造に有望なプリンテッドエレクトロニクスとその材料技術


~新規プロセスとしてのPE技術の可能性・課題・最新技術を解説~


FPDの分野で低環境負荷・低コスト化の観点から検討が進むグリーンプロセス革命。
その実現のために、プリンテッドエレクトロニクス・脱真空・脱リソグラフィの技術・材料へどんな要望があるのか?
どこに課題があるのだろうか?
技術課題と、製造プロセス・製造装置・材料の最新動向からこれからのR&D、製品開発の方向性を示唆いたします。



受講料


48,600円 ( S&T会員受講料 46,170円 )
(まだS&T会員未登録の方は、申込みフォームの通信欄に「会員登録情報希望」と記入してください。詳しい情報を送付します。ご登録いただくと、今回から会員受講料が適用可能です。)


【キャンペーン!2名同時申込みで1名分無料(1名あたり定価半額 の24,300円)】
※2名様ともS&T会員登録をしていただいた場合に限ります。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※3名様以上のお申込みの場合、上記1名あたりの金額で追加受講できます。
※受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
※請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
(申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」と記入ください。)
※他の割引は併用できません。


講師


Ukai Display Device Institute 代表 鵜飼 育弘 氏
 
【経歴】
1968年 大阪大学 卒業、同年ホシデン(株) 入社
1979年から主にトップゲート型a-Si TFT-LCDのR&Dおよび事業化に従事。
1989年 Apple Macintosh potableに世界で初めて10型モノクロ反射型a-Si TFT-LCDが採用された。
世界で初めて民間航空機(ボーイング社777)コックピット用ディスプレイとしてTFT-LCDが採用された。
スペースシャトルのコックピット用ディスプレイとしても採用された。 Du Pontとa-Si TFTとSeによる直接変換型X線ディテクタ(FPD:Flat Panel Detectorを開発実用化。
1999年 東京工業大学から工学博士号授与される。同年3月退職(退職時、開発技術研究所参与)。
1999年 ソニー(株)入社 STLCD技術部長としてLTPS TFT-LCDの量産立ち上げに従事。
世界で初めてガラス基板上にLTPS TFTによるシステム・オン・パネルの量産。
2002年からモバイルディスプレイ事業本部担当部長及びコーポレートR&Dディスプレイデバイス開発本部Chief Distinguish Engineerとして、技術戦略・技術企画担当。 In-Cell化技術を学業界に提唱し事業化を推進した。
2008年3月 ソニー(株) 退職
2008年4月から現職

【その他】
九州大学大学院、大阪市立大学大学院非常勤講師歴任 
矢野経済研究所 客員研究員
応用物理学会シニア会員 Society for Information Display Senior Member
「薄膜トランジスタ技術のすべて」「実践ディスプレイ工学」など著書多数


趣旨


 昨今のTFT-LCDやフレキシブルOLEDの製造への投資は数千億円から一兆円へと巨額化している。しかも、製造に必要な設備やユーティリティは、デバイスの軽薄短小・低消費電力とは裏腹に重厚長大な設備や莫大なユーティリティを消費する産業となっている。

 本セミナーでは、環境に優しく資源の有効利用に寄与できる新規プロセス技術としてのプリンテッドエレクトロニクス(PE)を取り上げる。
  そして、現状の課題を明確にし、次世代のFPD製造技術としてのPEを基礎から応用に至るまで、分かりやすくしかも最新動向まで詳しく解説する。


プログラム


1.グリーンプロセス革命
  1.1 グリーンプロセスとは
  1.2 現行FPDおよびタッチパネル製造の現状と課題
  1.3 枚葉製造からロール・ツ・ロール(R2R)へ
  1.4 真空、フォトリソグラフィによるプロセスからの脱却

2.プリンテッドエレクトロニクス(PE)
  2.1 PEとは
  2.2 PE用材料(主にTFT用)
    (1)導電材料
    (2)半導体材料
    (3)絶縁材料など
    (4)他
  2.3 OLED用材料
    (1)発光材料
    (2)電極材料
    (3)ガスバリア
    (4)他
  2.4 標準化動向

3.グリーンプロセスによるデバイス作製
  3.1 PEによる有機TFTと応用回路
    (1)インクジェット法
    (2)凸版印刷法
  3.2 ミストCVDによる酸化物半導体TFT
  3.3 スリットコータによる酸化物半導体TFT
  3.4 大気圧ALD(Atomic Layer Deposition)によるOLEDバリア層
  3.5 インクジェット法によるOLED
  3.6 他

4.今後の展望

5.まとめ

□質疑応答・名刺交換□


※セミナーに申し込むにはものづくりドットコム会員登録が必要です

開催日時


10:30

受講料

48,600円(税込)/人

※本文中に提示された主催者の割引は申込後に適用されます

※銀行振込 または、当日現金でのお支払い

開催場所

東京都

MAP

【品川区】きゅりあん

【JR・東急・りんかい線】大井町駅

主催者

キーワード

電気・電子技術   高分子・樹脂技術   生産工学

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