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EUVリソグラフィの本格量産への課題は何か?
求められる部材、装置とは?
最新技術の開発状況、課題への取り組み、
そして半導体の微細化展望まで詳しく解説
セミナー趣旨
EUVリソグラフィ技術は2019年より最先端の半導体量産技術として適用されました。欧米、アジアを中心に半導体技術の世界覇権争いが激化しています。このような状況の中で、EUVリソグラフィ技術開発の黎明期から、現在、そして今後の展望を正しく理解し、今後の半導体およびその周辺技術開発に生かして頂きたいと考えています。これを目的にして、EUVリソグラフィの光学系、レジスト、マスク、ペリクル技術に加えて、これらの評価技術について紹介します。兵庫県立大学では1996年より25年間に亘り、EUVリソグラフィの基盤技術開発に取り組んで参りました。ニュースバル放射光施設でのEUVリソグラフィ技術開発にも言及したいと存じます。この講演を通じて、少しでも皆様にお役に立てればと講演依頼を引き受けました。よろしくお願い致します。
セミナープログラム
1.リソグラフィ技術全般について
2.EUVリソグラフィ技術の重要性について
3.EUVリソグラフィの開発の歴史
4.EUリソグラフィの技術課題
5.EUV用光学系および多層膜技術について
6.EUV用レジスト材料・プロセス技術について
7.EUV用マスク技術について
8.EUV用ペリクル技術について
9.今後のEUVリソグラフィ技術動向
10.今後の半導体技術展望
【質疑応答】
セミナー講師
兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 所長 教授 理学博士 渡邊 健夫 氏
セミナー受講料
1名につき55,000円(税込・資料付き)
〔1社2名以上同時申込の場合1名につき49,500円(税込)〕
受講について
- 本講座はZoomを利用したLive配信セミナーです。セミナー会場での受講はできません。
- 下記リンクから視聴環境を確認の上、お申し込みください。
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セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。 - Zoomクライアントは最新版にアップデートして使用してください。
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- セミナー資料はお申込み時にお知らせいただいた住所へお送りいたします。
お申込みが直前の場合には、開催日までに資料の到着が間に合わないことがあります。ご了承ください。 - 当日は講師への質問をすることができます。可能な範囲で個別質問にも対応いたします。
- 本講座で使用される資料や配信動画は著作物であり、
録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売等を禁止いたします。 - 本講座はお申し込みいただいた方のみ受講いただけます。
複数端末から同時に視聴することや複数人での視聴は禁止いたします。 - Zoomのグループにパスワードを設定しています。
部外者の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
万が一部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。
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