＜午前中で終わる90分速習セミナー＞『半導体における洗浄のポイント・コツを修得！』【Live配信対応】

セミナー趣旨

　本セミナーでは、洗浄する目的から基本に立ち返ります。洗うとは如何なることで何のためなのか、半導体の場合にきれいとは何なのか、どのような方法で、どのような状態にすればきれいなのかを考えてみます。ここでは特に、洗浄という一連の工程を、現象と項目ごとに分類して理解して行き、何故洗うのか、普通に洗うことと半導体の洗浄の違いは何か、どのように仕上げたら良いのか、足元をすくわれるとしたら何なのか、を解説し、対策を取る際の考え方と方法を簡潔に説明します。半導体以外の洗浄をしている技術者にも参考にして頂けます。

習得できる知識

半導体をはじめとする先端材料の洗浄方法を組み立てるための要素に関する知識
目的に合わせた「清浄」の定義
キレイにするために表面を取扱う考え方
工業プロセスに共通して潜在する化学工学（移動現象）

セミナープログラム

１．洗う理由：汚れは何？いつ、どこからなぜやって来る？

２．一般の洗浄（洗浄の４要素:温度、時間、化学、力学）

３．半導体の洗浄に特有のこと

４．先端技術情報（半導体洗浄を取扱っている国際学会・国内学会）

５．半導体洗浄の基礎現象
　5.1 表面現象（付着・脱離・引き剥がす）
　5.2 化学工学：流れ、熱、拡散、反応
　5.3 装置内流れの種類

６．洗浄機内の流れと反応
　6.1 枚葉式洗浄機
　　6.1.1 水の流れ（観察と計算）
　　6.1.2 化学反応の例
　6.2 バッチ式洗浄機
　　6.2.1 水の流れ(観察と計算)
　　6.2.2 水流を最適化（変える）
　6.3 超音波の働きと水の動き（観察）

７．まとめ：課題解決の要素
 
　　□質疑応答・名刺交換□
　　（※ 会場受講者・・・質疑応答＆名刺交換が可能です。講師メールに質問可能です。）
　　（※ Live受講者・・・チャット機能で質疑応答が可能です。講師メールに質問可能です。）

セミナー講師

横浜国立大学 大学院理工学府 化学・生命系理工学専攻 教授　羽深 等　氏

【経歴】
新潟大学理学部化学科　理学士（1979年3月）
京都大学大学院理学研究科化学専攻　理学修士（1981年3月）
広島大学大学院工学研究科　博士（工学）（1996年9月）
信越化学工業（信越半導体）　1981年4月～2000年3月
横浜国立大学工学部物質工学科　助教授　2000年4月～2002年3月
横浜国立大学大学院工学研究院　教授　2002年4月～現在に至る
【研究分野】
半導体結晶製造プロセスの化学工学（実験と解析）
半導体シリコンウエハ湿式洗浄装置（枚葉・バッチ）の解析・設計
半導体シリコンと炭化珪素の薄膜成長（CVD）・エッチング・装置クリーニング技術開発
半導体シリコン表面の分子吸着・脱離挙動の測定と解析

セミナー受講料

27,500円( S&T会員受講料26,120円 )
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【1名分無料適用条件】
※2名様ともS&T会員登録が必須です。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※3名様以上のお申込みの場合、１名あたり定価半額で追加受講できます。
※受講券、請求書は、代表者に郵送いたします。
※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です。
　(申込みフォームの通信欄に「請求書１名ごと発行」と記入ください。)
※他の割引は併用できません。

受講について

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