プラズマ生成の基礎とプラズマCVD(化学気相堆積)による高品質成膜プロセスのノウハウ

セミナー趣旨

習得できる知識

セミナープログラム

１．プラズマと気体放電の基礎
　1.1 プラズマの温度
　　　（低温大気圧プラズマはどうしてできるのか？）
　1.2 壁との境界「シース」
　　　（プロセスでは表面近傍の理解が大切！）
　1.3 Townsendの放電理論とPaschenの法則
　　　（そもそも放電しないと話にならない！）

２．プラズマ源
　2.1 DC放電プラズマとシース
　　　（プラズマ中の電位構造の理解がイオン衝撃の理解に繋がる！）
　2.2 RF放電プラズマの基礎と装置構造
　　　（電極非対象とコンデンサの効能）
　2.3 高密度プラズマ源は何故高密度か？
　　　（電子の直進か回転かが密度の決め手！）

３．プラズマ化学工学
　3.1 制御パラメータと内部パラメータ
　　　（操作できるのは何か、実際には何が変わるのか？）
　3.2 電子の分布関数
　　　（電子のエネルギーは数十eVまで拡がる！）
　3.3 一次反応
　　　（電子衝突解離で何ができるのか？ それは制御可能なのか？）
　3.4 二次反応
　　　（電子衝突解離で何が生成されるかが関係無い、ということもある！）
　3.5 輸送過程
　　　（通常は拡散だが、イオンのドリフトを使うとイオン衝撃効果援用）
　3.6 表面反応過程
　　　（表面で動くことの重要性。それを制御するパラメータは？）

４．薄膜堆積プロセス
　4.1 膜構造形成過程の基本的描像
　　　（この描像をまずもつべし！）
　4.2 電子材料としての膜構造
　　　（欠陥とは何か？ 何故形成されるのか？）
　4.3スパッタ成膜とその特徴
　　　（スパッタで出来ないことやるのがCVD）
　4.4 プラズマCVDとその特徴
　　　（では、CVDでは何ができるのか？）
　4.5 a-Si:H成膜過程と物性
　　　（最も良く理解されている描像）
　4.6 イオン衝撃の効能
　　　（制御によって毒にも薬にもなる）
　4.7 機能基の含有
　　　（電子エネルギー分布の制御と二次反応の賜物）

　　□質疑応答・名刺交換□

セミナー講師

大阪市立大学 大学院工学研究科 教授　白藤 立 氏
【主な研究・専門】
プラズマを用いた材料プロセシングの研究に従事。最近は、大気圧プラズマや液体が関与するプラズマ材料プロセシングの研究に注力している。

セミナー受講料

49,500円( S&T会員受講料47,020円 )
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