半導体デバイスの物理的洗浄手法
～半導体の構造、静電気障害対策から先端の洗浄法まで～
半導体デバイス製造時の静電気障害の対策を長年研究されている講師が教える【半日集中講義】
■ 半導体デバイスのマーケット動向、業界の動き
■ 半導体製造の基礎、流体力学の理解を通じて、半導体洗浄の原理を理解
■ 歩留まりに大きく関わる洗浄プロセスにおける、
スプレー・超音波・ブラシなどの各洗浄方法と静電気障害への対策
■ 次世代の物理洗浄技術とは
半導体デバイス洗浄に関わる若手技術者の皆様、半導体デバイス洗浄ビジネスについて情報収集の皆様はぜひ本セミナーを業務にお役立てください！
日時
【Live配信】 2024年7月23日（火）13:00～16:30
【アーカイブ配信】 2024年8月19日（月）まで受付（視聴期間：8/19～8/30）
受講可能な形式：【Live配信】or【アーカイブ配信】のみ
セミナー趣旨
受講対象・レベル
・半導体デバイス洗浄に関わる、3～4年目の技術者の方
・半導体デバイス洗浄にビジネスをお探しの方
基礎からお話しますので、お気軽にご参加ください。
習得できる知識
・半導体デバイス市場動向と業界動向
・半導体の基礎、半導体物理洗浄の原理
・半導体デバイス製造時の静電気障害の対策
セミナープログラム
２．半導体デバイスの物理的洗浄の必要性
2.1 半導体デバイスの基礎
2.2 半導体製造プロセス
2.3 半導体デバイス製造プロセスにおける洗浄の必要性
2.4 化学的洗浄と物理的洗浄
３．水流を利用した洗浄について
3.1 流体力学の基礎
3.2 高圧スプレー洗浄
3.3 二流体スプレー洗浄
3.4 超音波洗浄スプレー洗浄
3.5 ブラシ洗浄
3.6 次世代の物理的洗浄技術
４．スプレー洗浄時の静電気障害
4.1 静電気の基礎
4.2 半導体デバイスの洗浄の静電気障害
4.3 スプレー時に発生する静電気と静電気障害のメカニズム
５．最先端の洗浄方法（表面処理）
学会等からの情報
□質疑応答□
セミナー講師
愛知工業大学 工学部 電気学科 教授 清家 善之 氏
【ご専門】
電子デバイス製造プロセス、有機ELデバイス、有機薄膜太陽電池、スプレー、成膜、静電気、洗浄
セミナー受講料
※お申込みと同時にS&T会員登録をさせていただきます(E-mail案内登録とは異なります)。
49,500円( E-mail案内登録価格46,970円 )
E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料
2名で 49,500円 (2名ともE-mail案内登録必須／１名あたり定価半額24,750円)
【1名分無料適用条件】
※2名様ともE-mail案内登録が必須です。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※3名様以上のお申込みの場合、１名あたり定価半額で追加受講できます。
※請求書（PDFデータ）は、代表者にE-mailで送信いたします。
※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です。
(申込みフォームの通信欄に「請求書１名ごと発行」と記入ください。)
※他の割引は併用できません。
テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【オンライン配信セミナー受講限定】
1名申込みの場合：受講料( 定価：37,400円／E-mail案内登録価格 35,640円 )
※１名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。
※他の割引は併用できません。
受講、配布資料などについて
ZoomによるLive配信 ►受講方法・接続確認（申込み前に必ずご確認ください）
アーカイブ配信 ►受講方法・視聴環境確認（申込み前に必ずご確認ください）
配布資料
- PDFテキスト(印刷可・編集不可)
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