メタマテリアル・メタオプティクスの考え方から、メタサーフェスによる透過スペクトル制御・偏光制御・位相制御といった光制御の基礎、さらにはメタレンズ、光クローキング（透明化）やス...

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～装置、スラリー・研磨パッド等の消耗材料の技術、応用プロセス、研磨メカニズム、最新CMP技術～ 半導体等のデバイス製造において今やなくてはならないキープロセスの基礎と全貌...

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～ ISO9001認証された、あるいはISO9001認証されていないが準拠して監査する場合の要点～  　GMPではない監査を行う際の起こりうる問題とその対応策&...

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～PFAS規制がもたらす変化に対応できるフッ素フリー材料開発の現状、考え方、方向性～ PFAS規制の現状把握、今後のPFAS規制を考慮した材料開発の考え方・方向性半導体やエ...

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